[发明专利]一种兼具良好生物相容性和光热转换效果的氧化钽涂层及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201810135601.1 申请日: 2018-02-09
公开(公告)号: CN110129712A 公开(公告)日: 2019-08-16
发明(设计)人: 谢有桃;丁玎;李恺;黄利平;赵君;郑学斌 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C23C4/134 分类号: C23C4/134;C23C4/11;A61L27/30
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 曹芳玲;熊子君
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 氧化钽涂层 生物相容性 制备方法和应用 光热转换 光热转换性能 等离子喷涂 分化能力 喷涂
【权利要求书】:

1.一种促体外成骨和光热性能良好的氧化钽涂层,其特征在于,所述氧化钽涂层是由Ta2O5粉末采用等离子喷涂方法喷涂而成。

2.根据权利要求1所述的氧化钽涂层,其特征在于,所述涂层形成于基材上,所述基材为医用金属材料,优选为钛、不锈钢、或钴铬钼合金。

3.根据权利要求1或2所述的氧化钽涂层,其特征在于,所述等离子喷涂方法为大气等离子喷涂或真空等离子喷涂。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的氧化钽涂层,其特征在于,所述氧化钽涂层的厚度为20~300μm。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的氧化钽涂层,其特征在于,所述氧化钽涂层呈黑色。

6.一种权利要求1至5中任一项所述的氧化钽涂层的制备方法,其特征在于,由Ta2O5粉末采用大气等离子喷涂方法在基材上喷涂而制得所述氧化钽涂层,其中,大气等离子喷涂的工艺条件如下:等离子体气体Ar流量为30~50 slpm;等离子体气体 H2流量为6~18slpm;喷涂距离为80~200 mm;喷涂功率为30~55 kW;送粉速率为8.0~30g/min。

7.一种权利要求1至5中任一项所述的氧化钽涂层的制备方法,其特征在于,由Ta2O5粉末采用真空等离子喷涂方法在基材上喷涂而制得所述氧化钽涂层,其中,真空等离子喷涂的工艺条件如下:真空度为80~100 mbar,等离子体气体Ar流量为30~50 slpm;等离子体气体 H2流量为6~18 slpm;喷涂距离为80~330 mm;喷涂功率为30~55 kW;送粉速率为8.0~30 g/min。

8.根据权利要求6或7所述的制备方法,其特征在于,所述Ta2O5粉末由粒径为1~100μm的原始Ta2O5粉末经过喷雾造粒技术球化而得。

9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,将所述原始Ta2O5粉末制备成固含量为30%~60%的浆料,喷入喷雾造粒机中,通过喷雾造粒得到球化粉料。

10.一种权利要求1至5中任一项所述的氧化钽涂层在制备硬组织的修复与替换材料中的应用,尤其是在制备骨肿瘤光热治疗剂中的应用。

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