[发明专利]一种像素排布结构及相关装置在审

专利信息
申请号: 201810134066.8 申请日: 2018-02-09
公开(公告)号: CN110137206A 公开(公告)日: 2019-08-16
发明(设计)人: 肖志慧;刘月;张浩瀚;白珊珊 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;C23C14/24;C23C14/12;C23C14/04
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 子像素 虚拟四边形 像素排布结构 显示器件 相关装置 中心距离 相等 中心位置处 顶角位置 工艺条件 紧密排列 驱动电流 相邻像素 像素开口 像素排布 中点位置 分辨率 侧边 减小
【权利要求书】:

1.一种像素排布结构,其特征在于,包括:第一子像素,第二子像素和第三子像素;

所述第一子像素位于第一虚拟四边形的中心位置处和所述第一虚拟四边形的四个顶角位置处;

所述第二子像素位于所述第一虚拟四边形的侧边中点位置处;

所述第三子像素位于第二虚拟四边形内,所述第二虚拟四边形由位于所述第一虚拟四边形相邻两个侧边中点位置处的两个所述第二子像素、与该两个所述第二子像素均相邻且分别位于所述第一虚拟四边形的中心位置处和所述第一虚拟四边形的一顶角位置处的所述第一子像素作为顶角顺次相连形成,且四个所述第二虚拟四边形构成一个所述第一虚拟四边形;

在所述第二虚拟四边形内,所述第三子像素的中心与两个所述第一子像素的中心之间的距离相等;和/或,在所述第二虚拟四边形内,所述第三子像素的中心与两个所述第二子像素的中心之间的距离相等。

2.如权利要求1所述的像素排布结构,其特征在于,在所述第二虚拟四边形内,所述第三子像素的中心与两个所述第二子像素的中心之间的距离不等于所述第三子像素的中心与两个所述第一子像素的中心之间的距离。

3.如权利要求2所述的像素排布结构,其特征在于,所述第二虚拟四边形内,相对的两个内角等于90°,相对的另外两个内角中的一个大于90°,另一个小于90°。

4.如权利要求3所述的像素排布结构,其特征在于,位于一个所述第一虚拟四边形的对角线位置处的两个所述第二虚拟四边形的形状相同。

5.如权利要求4所述的像素排布结构,其特征在于,在所述第一虚拟四边形内,所述第三子像素呈“X”状分布。

6.如权利要求1所述的像素排布结构,其特征在于,在所述第二虚拟四边形内,所述第三子像素沿着两个所述第二子像素的中心连线对称,所述第三子像素沿着两个所述第一子像素的中心连线对称。

7.如权利要求6所述的像素排布结构,其特征在于,在所述第二虚拟四边形内,所述第三子像素与两个所述第一子像素之间的间距相等且为第一间距,所述第三子像素与两个所述第二子像素之间的间距相等且为第二间距,所述第一间距等于第二间距。

8.如权利要求7所述的像素排布结构,其特征在于,在所述第二虚拟四边形内,一个所述第一子像素与两个所述第二子像素之间的间距相等且为第三间距,另一个所述第一子像素与两个所述第二子像素之间的间距相等且为第四间距,所述第四间距大于或等于所述三间距,所述第三间距大于或等于所述第一间距。

9.如权利要求1-8任一项所述的像素排布结构,其特征在于,所述第一子像素、所述第二子像素和所述第三子像素的形状为多边形;或,所述第一子像素、所述第二子像素和所述第三子像素的形状为具有倒圆角的多边形。

10.如权利要求9所述的像素排布结构,其特征在于,所述第一子像素、所述第二子像素和所述第三子像素的形状为四边形、六边形、八边形、具有倒圆角的四边形、具有倒圆角的六边形或具有倒圆角的八边形。

11.如权利要求1-8任一项所述的像素排布结构,其特征在于,所述第一子像素为红色子像素,所述第二子像素为蓝色子像素;或,所述第一子像素为蓝色子像素,所述第二子像素为红色子像素;

所述第三子像素为绿色子像素。

12.如权利要求11所述的像素排布结构,其特征在于,所述第三子像素的面积小于所述第一子像素的面积,且所述第三子像素的面积小于所述第二子像素的面积。

13.一种有机电致发光显示面板,其特征在于,包括如权利要求1-12任一项所述的像素排布结构,其中,相邻的第一虚拟四边形以共用侧边的方式在行方向和列方向排列。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810134066.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top