[发明专利]用于沉积含硅膜的有机氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷

权利要求书

1.一种组合物，其包含选自式A和B的至少一种有机氨基官能化低聚硅氧烷化合物和任选的溶剂和吹扫气体中的一种或多种：

其中，

R¹选自C₁至C₁₀直链烷基、C₃至C₁₀支链烷基、C₃至C₁₀环状烷基、C₃至C₁₀杂环基、C₃至C₁₀烯基、C₃至C₁₀炔基和C₄至C₁₀芳基；

R²选自氢、C₁至C₁₀直链烷基、C₃至C₁₀支链烷基、C₃至C₁₀环状烷基、C₃至C₁₀杂环基、C₃至C₁₀烯基、C₃至C₁₀炔基和C₄至C₁₀芳基，其中R¹和R²连接形成环状环结构或不连接形成环状环结构；

R^3-9各自独立地选自氢、C₁至C₁₀直链烷基、C₃至C₁₀支链烷基、C₃至C₁₀环状烷基、C₂至C₁₀烯基和C₂至C₁₀炔基；

其中式B的化合物选自：2-二乙基氨基-2,4,4,6,6,8,8-七甲基环四硅氧烷、2-乙基甲基氨基-2,4,4,6,6,8,8-七甲基环四硅氧烷、2-异丙基氨基-2,4,4,6,6,8,8-七甲基环四硅氧烷、2-二甲基氨基-2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷、2-二乙基氨基-2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷、2-乙基甲基氨基-2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷和2-异丙基氨基-2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷。

2.根据权利要求1所述的组合物，其包含选自式A至少一种化合物。

3.根据权利要求1所述的组合物，其包含选自式B的至少一种化合物。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的组合物，所述组合物还包含选自溶剂和吹扫气体的至少一种。

5.根据权利要求2所述的组合物，其中R^2-9各自独立地选自氢和C₁至C₄烷基。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的组合物，其中所述组合物基本上不含选自卤化物、金属离子、金属及其组合的一种或多种杂质。

7.根据权利要求2所述的组合物，其中式A的有机氨基官能化低聚硅氧烷化合物选自：2-二甲基氨基-2,4,4,6,6-五甲基环三硅氧烷、2-二乙基氨基-2,4,4,6,6-五甲基环三硅氧烷、2-乙基甲基氨基-2,4,4,6,6-五甲基环三硅氧烷、2-异丙基氨基-2,4,4,6,6-五甲基环三硅氧烷、2-二甲基氨基-2,4,6-三甲基环三硅氧烷、2-二乙基氨基-2,4,6-三甲基环三硅氧烷、2-乙基甲基氨基-2,4,6-三甲基环三硅氧烷、2-异丙基氨基-2,4,6-三甲基环三硅氧烷。