[发明专利]一种氮化硅烧结体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810124290.9 申请日: 2018-02-07
公开(公告)号: CN110117192B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 刘学建;王鲁杰;杨晓;张辉;姚秀敏;黄政仁 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C04B35/584 分类号: C04B35/584;C04B35/622;C04B35/645;C04B35/80
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 曹芳玲;熊子君
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 氮化 烧结 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种氮化硅烧结体,其特征在于,主要由氮化硅结晶、以及弥散分布于所述氮化硅结晶之间的金属第二相组成,其中,所述金属第二相的主要成分包括以钨和/或铼为主要成分的金属单质和/或合金;

氮化硅结晶和金属第二相的总含量不低于氮化硅烧结体总量的75wt%;

金属第二相中,钨和铼的总量不低于金属总量的75wt%;

所述金属第二相的含量占氮化硅烧结体总量的0.5vol%~35vol%;

所述氮化硅烧结体的制备方法为:将氮化硅粉体、烧结助剂、以及用于形成第二相的金属均匀混合得到粉体原料,成型后在0.5~20MPa氮气气压下1500~1900℃烧结制备。

2.根据权利要求1所述的氮化硅烧结体,其特征在于,所述金属第二相以颗粒和/或非连续纤维的状态存在。

3.根据权利要求2所述的氮化硅烧结体,其特征在于,所述颗粒为球状、棒状、或片状。

4.根据权利要求2所述的氮化硅烧结体,其特征在于,所述纤维的直径在0.1μm~200μm。

5.根据权利要求1所述的氮化硅烧结体,其特征在于,所述氮化硅粉体的粒径在0.3μm~20μm,烧结助剂的粒径为0.1μm~20μm。

6.根据权利要求1所述的氮化硅烧结体,其特征在于,将得到的粉体原料经10~80MPa干压和120~300MPa冷等静压成型或直接120~300MPa冷等静压成型。

7.根据权利要求1所述的氮化硅烧结体,其特征在于,所述烧结的时间为1~5h。

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