[发明专利]涂敷装置和涂敷方法在审

专利信息
申请号: 201810116963.6 申请日: 2018-02-06
公开(公告)号: CN108417712A 公开(公告)日: 2018-08-17
发明(设计)人: 三根阳介;宫崎一仁 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;H01L51/56
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 副扫描方向 主扫描方向 上移动 液滴排出部 移动部 浮起 台部 涂敷装置 功能液 液滴 位置控制性 处理期间 描绘图案 滴注液 滴注 风压 涂敷 描绘
【权利要求书】:

1.一种涂敷装置,其使基片的功能液的液滴的着液位置在主扫描方向和副扫描方向上移动,在所述基片上描绘所述功能液的描绘图案,所述涂敷装置的特征在于,包括:

利用气体的风压使所述基片浮起在规定的高度的台部;

液滴排出部,其向浮起在距所述台部规定的高度的所述基片滴注所述功能液的液滴;

主扫描方向移动部,其保持浮起在距所述台部规定的高度的所述基片并且使所述基片在所述主扫描方向上移动;和

副扫描方向移动部,其使所述液滴排出部相对于浮起在距所述台部规定的高度的所述基片在所述副扫描方向上移动,

反复进行所述主扫描方向移动部使所述基片在所述主扫描方向上移动并且所述液滴排出部滴注所述液滴的处理期间,所述副扫描方向移动部使所述液滴排出部在所述副扫描方向上移动。

2.如权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于:

所述主扫描方向移动部包括:在所述主扫描方向上延伸的主扫描方向导轨部;沿所述主扫描方向导轨部移动的主扫描方向滑块部;和与所述主扫描方向滑块部一同移动并保持所述基片的多个基片保持部。

3.如权利要求2所述的涂敷装置,其特征在于:

所述主扫描方向移动部还包括偏转修正部,从铅垂方向看,其使由多个所述基片保持部保持的所述基片旋转移动。

4.如权利要求2或3所述的涂敷装置,其特征在于:

所述主扫描方向移动部还包括水平度修正部,其对由多个所述基片保持部保持的所述基片的水平度进行修正。

5.如权利要求1~3中任一项所述的涂敷装置,其特征在于:

包括安装在所述液滴排出部的、吸收所述液滴排出部的振动的振动吸收部。

6.一种涂敷方法,其特征在于:

使用权利要求1~3中任一项所述的涂敷装置,在所述基片上描绘所述功能液的描绘图案。

7.如权利要求6所述的涂敷方法,其特征在于

所述功能液用于有机发光二极管的制造。

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