[发明专利]密封件及发光装置有效
申请号: | 201810113077.8 | 申请日: | 2018-02-05 |
公开(公告)号: | CN110120623B | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 谢颂婷;杨佳翼;后国波;李屹 | 申请(专利权)人: | 深圳光峰科技股份有限公司 |
主分类号: | H01S3/02 | 分类号: | H01S3/02;H01S5/02 |
代理公司: | 广东广和律师事务所 44298 | 代理人: | 陈巍巍 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 密封件 发光 装置 | ||
1.一种密封件,其特征在于,所述密封件包括耐光照层和与所述耐光照层层叠设置的光阻挡层,所述光阻挡层用于对经过所述耐光照层的至少部分的光束进行阻挡。
2.根据权利要求1所述的密封件,其特征在于,所述光阻挡层包括通过对光的吸收作用对光束进行阻挡的光吸收层,所述光吸收层位于所述密封件远离光束照射方向的一侧。
3.根据权利要求1所述的密封件,其特征在于,所述光阻挡层包括位于所述耐光照层远离光束照射方向一侧的遮光层。
4.根据权利要求1所述的密封件,其特征在于,所述光阻挡层为通过对光的反射作用作用对光束进行阻挡的反射层。
5.根据权利要求4所述的密封件,其特征在于,所述反射层为镀膜在所述耐光照层局部表面的镀层,所述镀层的材料为金属反射材料、电介质反射材料,或金属电介质反射材料中的任意一种。
6.根据权利要求5所述的密封件,其特征在于,所述镀层覆盖所述耐光照层的全部表面。
7.根据权利要求1所述的密封件,其特征在于,所述光阻挡层位于所述耐光照层远离光束发出方向一侧,所述光阻挡层为遮光层,所述遮光层为深色图层,所述遮光层为通过喷涂、镀膜中的任意一种方式附着于耐光照层上。
8.根据权利要求1所述的密封件,其特征在于,所述耐光照层在所述光阻挡层上的投影面积大于或等于所述光阻挡层。
9.根据权利要求1所述的密封件,其特征在于,所述耐光照层和所述光阻挡层为一体注塑成型。
10.根据权利要求1所述的密封件,其特征在于,所述耐光照层与所述光阻挡层之间设置有连接层,所述光阻挡层为平面结构或过渡式结构。
11.根据权利要求10所述的密封件,其特征在于,所述连接层为焊接层,所述焊接方式为超声波焊接、超声波贴焊、超声波埋植或超声波铆接中的任意一种。
12.根据权利要求10所述的密封件,其特征在于,所述连接层为粘接层,所述粘接层采用环氧树脂、天然橡胶或酚醛树脂中的任意一种制成。
13.根据权利要求1所述的密封件,其特征在于,所述耐光照层包括分别设置在所述光阻挡层两侧的第一耐光照层和第二耐光照层。
14.一种发光装置,其特征在于,包括光源、用于固定密封件的密封槽和和与所述密封槽相匹配的密封件,所述密封件包括耐光照层和与所述耐光照层层叠设置的光阻挡层,所述光阻挡层用于对经过所述耐光照层的至少部分的光束进行阻挡。
15.根据权利要求14所述的发光装置,其特征在于,所述光阻挡层包括通过对光的吸收作用对光束进行阻挡的光吸收层,所述光吸收层位于靠近所述密封槽的一侧。
16.根据权利要求14所述的发光装置,其特征在于,所述耐光照层包括位于远离所述密封槽一侧的遮光层。
17.根据权利要求14所述的发光装置,其特征在于,所述耐光照层至少部分埋入发光装置内部。
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