[发明专利]一种单面印制板的快速制作工艺在审

专利信息
申请号: 201810111853.0 申请日: 2018-02-05
公开(公告)号: CN108156766A 公开(公告)日: 2018-06-12
发明(设计)人: 张二琴 申请(专利权)人: 安吉腾新印刷厂
主分类号: H05K3/20 分类号: H05K3/20;H05K3/26;H05K3/28
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 陈宙;李莎
地址: 313300 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 覆铜板 蚀刻 热转印纸 双氧水 单面印制板 快速制作 转印 盐酸 打印 熔化 沙眼 混合溶液中 印制电路板 热转印机 浸没 混合液 清洗板 热转印 蚀刻液 印制板 助焊剂 钻孔 断线 墨粉 吸附 下料 冷却 清洗 送入 残留 流水 印制 覆盖 检查
【说明书】:

发明公开了一种单面印制板的快速制作工艺,包括以下步骤:S1、下料;S2、打印;S3、转印:将步骤2的热转印纸转印到覆铜板上,将打印好的热转印纸覆盖在覆铜板上,送入热转印机来回压三次,使熔化的墨粉完全吸附在覆铜板上,待覆铜板冷却后,揭去热转印纸;S4、修版:检查步骤3的覆铜板热转印效果,是否存在断线以及沙眼;S5、蚀刻:蚀刻液采用双氧水、盐酸和水的混合液,其中双氧水:盐酸:水=2:1:2,浓度在28%~42%之间,将描修好的印制电路板完全浸没到混合溶液中,蚀刻印制图形;S6、水洗:把蚀刻后的印制板立即放在流水中清洗3min,清洗板上残留的溶液;S7、钻孔;S8、涂助焊剂。

技术领域

发明涉及线路板制作制作技术领域,具体为一种单面印制板的快速制作工艺。

背景技术

单面印制板是集成电路板的一种,是载装集成电路的一个载体。但往往说集成电路板时也把集成电路带上。集成电路板主要有硅胶构成,所以一般呈绿色。集成电路板是采用半导体制作工艺,在一块较小的单晶硅片上制作上许多晶体管及电阻器、电容器等元器件,并按照多层布线或遂道布线的方法将元器件组合成完整的电子电路。

目前的单面印制板的快速制作工艺,存在覆铜板上吸附的墨粉不完全,打印效果不理想,修版质量较差,钻孔时容易造成铜箔挤出毛刺和保护效果不理想的问题。

发明内容

发明的目的在于提供一种单面印制板的快速制作工艺,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,发明提供如下技术方案:一种单面印制板的快速制作工艺,包括以下步骤:

S1、下料:按照实际设计尺寸用裁板机裁剪覆铜板,去除四周毛刺;

S2、打印:将设计好的印制电路板布线图通过激光打印机打印到热转印纸上;

S3、转印:将步骤2的热转印纸转印到覆铜板上,将打印好的热转印纸覆盖在覆铜板上,送入热转印机来回压三次,使熔化的的墨粉完全吸附在覆铜板上,待覆铜板冷却后,揭去热转印纸;

S4、修版:检查步骤3的覆铜板热转印效果,是否存在断线以及沙眼,若有,用油性笔进行描修,若无,则直接跳过此步骤,直接进入下一步骤;

S5、蚀刻:蚀刻液采用双氧水、盐酸和水的混合液,其中双氧水:盐酸:水=2:1:2,浓度在28%~42%之间,将描修好的印制电路板完全浸没到混合溶液中,蚀刻印制图形;

S6、水洗:把蚀刻后的印制板立即放在流水中清洗3min,清洗板上残留的溶液;

S7、钻孔:对印制板上的焊盘孔、安装孔、定位孔进行机械加工,采用高速精密台钻打孔,钻孔时注意钻床转速应采取高速,进刀不宜过快;

S8、涂助焊剂:先用碎布沾去污粉后反复在板面擦拭,去掉铜箔氧化膜,露出铜的光亮本色,利用松香酒精溶液冲洗晾干后,立即涂助焊剂。

优选的,所述打印应注意以下步骤:

a、布线图应该镜像打印;

b、布线图必须打印在热转印纸的光面。

与现有技术相比,发明的有益效果是:

1、该单面印制板的快速制作工艺,通过转印:将步骤2的热转印纸转印到覆铜板上,将打印好的热转印纸覆盖在覆铜板上,送入热转印机来回压三次,使熔化的的墨粉完全吸附在覆铜板上,待覆铜板冷却后,揭去热转印纸,能够便捷的将热转印纸上的图形转移到覆铜板上;

2、该单面印制板的快速制作工艺,通过钻孔:对印制板上的焊盘孔、安装孔、定位孔进行机械加工,采用高速精密台钻打孔,钻孔时注意钻床转速应采取高速,进刀不宜过快,避免将铜箔挤出毛刺的问题;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安吉腾新印刷厂,未经安吉腾新印刷厂许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810111853.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top