[发明专利]一种耐酸碱的UV减粘组合物、UV减粘膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810105844.0 申请日: 2018-02-02
公开(公告)号: CN108300352A 公开(公告)日: 2018-07-20
发明(设计)人: 闫勇;陈伟 申请(专利权)人: 苏州城邦达力材料科技有限公司
主分类号: C09J7/25 分类号: C09J7/25;C09J7/38;C09J4/06;C09J133/04;C09J11/06;C09J11/08
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 舒畅
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 减粘 耐酸碱 粘膜 剥离力 减粘层 粘合力 制备 聚丙烯酸酯压敏胶 多官能度单体 基材层表面 重量百分比 组合物涂布 多官能度 光引发剂 离型膜层 耐酸碱性 保护膜 低聚物 固化剂 基材层 烘烤 溶剂 贴合 粘剂
【说明书】:

发明涉及保护膜技术领域,尤其是涉及一种耐酸碱的UV减粘组合物、UV减粘膜及其制备方法。所述耐酸碱的UV减粘组合物主要由按重量百分比计的如下原料制成:聚丙烯酸酯压敏胶粘剂25%‑45%、多官能度低聚物和/或多官能度单体1%‑20%、光引发剂0.1%‑1.5%、固化剂0.1‑2%和溶剂30%‑60%。所述UV减粘膜包括依次贴合的基材层、UV减粘层和离型膜层,其中,所述UV减粘层是由所述UV减粘组合物涂布于基材层表面,烘烤得到的。所述UV减粘组合物,UV照射前具有高粘合力,剥离力高,UV照射后具有低粘合力,UV剥离力低,并且具有优异的耐酸碱性。

技术领域

本发明涉及保护膜技术领域,尤其是涉及一种耐酸碱的UV减粘组合物、UV减粘膜及其制备方法。

背景技术

在电子产品制作过程中,如贴片电子元器件、SMT元器件、MLCC片式电容、片式电感制程中的定位切割,半导体晶片表面加工,电子及光电产业部件制作加工工程,晶片研磨、切割、各种硅片、封装基板、陶瓷、玻璃、水晶精细电子零件的承载加工和各种材质的微小零件的加工切割,都需要能够保护产品并且不影响产品生产质量的辅材。减粘膜就是其中一种辅材。

目前市场上的减粘保护膜多为UV减粘保护膜,是指在UV照射前具有高度粘合力,贴附性好,在UV照射后粘合力明显下降,易于剥离。但在电子工业生产过程中,有部分包含酸碱的制程,如触控面板制程中,玻璃之间需要经过碱液喷淋或浸泡、晶圆的化学镀UBM工艺,这些生产过程中都需要经历严苛的酸碱环境,而目前的UV减粘保护膜对这些酸碱环境无足够的耐受性。

有鉴于此,特提出本发明。

发明内容

本发明的第一目的在于提供一种耐酸碱的UV减粘组合物,在UV照射前具有优异的粘合力,在UV照射后粘合力大幅下降易于剥离,并且具有优异的耐酸碱性。

本发明的第二目的在于提供一种UV减粘膜,所述UV减粘膜在UV照射前具有优异的粘合力,在UV照射后粘合力大幅下降易于剥离,并且具有优异的耐酸碱性。

本发明的另一目的在于提供一种所述UV减粘膜的制备方法,所述制备方法操作工艺简单,可重复性好。

为了实现本发明的上述目的,特采用以下技术方案:

一种耐酸碱的UV减粘组合物,主要由按重量百分比计的如下原料制成:

聚丙烯酸酯压敏胶粘剂25%-45%、多官能度低聚物和/或多官能度单体1%-20%、光引发剂0.1%-1.5%、固化剂0.1-2%和溶剂30%-60%。

优选的,所述UV减粘组合物,主要由按重量百分比计的如下原料制成:

聚丙烯酸酯压敏胶粘剂30%-42%、多官能度低聚物和/或多官能度单体5%-20%、光引发剂0.5%-1%、固化剂0.5-1.5%和溶剂40%-58%。

本发明通过上述原料制备得到的UV减粘组合物,具有优异的粘合力,UV照射前具有高粘合力,剥离力高,UV照射后具有低粘合力。并且,本发明得到的UV减粘组合物,交联固化程度高,得到的组合物高度交联,分子链之间排列紧密,结构致密,提高耐酸碱性。所述多官能度低聚物和/或多官能度单体经UV照射后自身产生交联反应,交联反应后产生较大体积收缩使所述UV减粘组合物与被粘合物体表面之间产生褶皱,褶皱大的位置产生微孔,使UV减粘组合物与被粘合物体表面之间接触面积减小,从而实现减粘作用。

丙烯酸酯压敏胶粘剂,在较小的作用力下,即可形成牢固的粘合力,无需借助其他手段,便可与被粘物紧密粘接。

优选的,所述丙烯酸酯压敏胶粘剂为溶剂型丙烯酸酯压敏胶粘剂。更优选的,所述丙烯酸酯压敏胶粘剂的分子量为15万-150万。进一步优选的,所述溶剂型丙烯酸酯压敏胶粘剂的固含量为25%-45%,粘度为10000cps-20000cps。

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