[发明专利]一种自消泡清洁剂及其制备方法在审
| 申请号： | 201810094335.2 | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN108130216A | 公开（公告）日： | 2018-06-08 |
| 发明（设计）人： | 杨伟帅 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞奇丽新材料有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/83 | 分类号： | C11D1/83;C11D3/10;C11D3/08;C11D3/33;C11D3/20;C11D3/60 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215011 江苏省苏州市高新区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 消泡 清洁剂 乙二胺四乙酸四钠 二丙二醇单丁醚 表面活性剂 改性阴离子 改性聚醚 金属表面 浸泡清洗 偏硅酸钠 去离子水 碳酸钠 重量比 羧酸盐 油性 喷淋 中温 制备 | ||
【权利要求书】：
1.一种自消泡清洁剂，其特征在于，包括按重量比计的以下组分：
改性聚醚自消泡表面活性剂 3～8%
改性阴离子烷基化羧酸盐 5～10%
碳酸钠 5～15%
偏硅酸钠 1～5%
乙二胺四乙酸四钠 1～5%
二丙二醇单丁醚 1～5%
去离子水 50～80% 。
2.根据权利要求1所述自消泡清洁剂，其特征在于，所采用的偏硅酸钠为五水偏硅酸钠。
3.根据权利要求1所述自消泡清洁剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将容器中先加入适量的去离子水，然后依次缓慢加入改性聚醚自消泡表面活性剂、改性阴离子烷基化羧酸盐、碳酸钠、偏硅酸钠、乙二胺四乙酸四钠、二丙二醇单丁醚，搅拌使其完全溶解，即可。
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