[发明专利]半导体存储装置有效

专利信息
申请号: 201810094298.5 申请日: 2018-01-30
公开(公告)号: CN109509502B 公开(公告)日: 2022-12-09
发明(设计)人: 沙納德·布什納克;桥本寿文 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: G11C16/08 分类号: G11C16/08
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体存储装置,其特征在于具备:

字线及配线,能够经由传输晶体管而电连接;

第1升压电路,能够将输出电压升压至第1电压;

第1传输电路,能够将所述第1升压电路与所述配线之间电连接;以及

控制部;且

所述配线将所述第1传输电路与所述传输晶体管之间电连接,

所述控制部在读出动作时,

经由所述第1传输电路将所述第1升压电路与所述配线之间电连接,且使所述第1升压电路的向所述第1电压的升压开始,

在所述字线为非选择的情况下,维持所述第1升压电路与所述配线之间的电连接。

2.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于:所述第1升压电路的向所述第1电压升压的开始时间点、与所述配线的向所述第1电压升压的开始时间点实质上同时。

3.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于:所述控制部在所述读出动作时,将所述配线与所述字线之间经由所述传输晶体管的连接电切断,且使所述第1升压电路的升压开始。

4.根据权利要求3所述的半导体存储装置,其特征在于:所述第1升压电路的向所述第1电压升压的斜率、与所述配线的向所述第1电压升压的斜率相等。

5.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于还具备:

第2升压电路,能够将输出电压升压至与所述第1电压不同的第2电压;以及

第2传输电路,能够将所述第2升压电路与所述配线之间电连接;且

所述控制部在所述读出动作中在选择所述字线的情况下,将所述第1升压电路与所述配线之间经由所述第1传输电路的连接电切断,且经由所述第2传输电路而将所述第2升压电路与所述配线之间电连接。

6.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于:

还具备第3传输电路,该第3传输电路能够将外部电源与所述配线之间电连接,

所述控制部在所述读出动作中在所述配线为非选择的情况下,将所述第1升压电路与所述配线之间经由所述第1传输电路的连接电切断,且经由所述第3传输电路而将所述外部电源与所述配线之间电连接。

7.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于:

所述第1传输电路包含第1驱动器及第2驱动器,所述第1驱动器及第2驱动器并联连接在所述第1升压电路与所述配线之间,

所述控制部在所述字线为非选择的情况下,从经由所述第1驱动器的连接向经由所述第2驱动器的连接切换,且维持所述第1升压电路与所述配线之间的电连接。

8.一种半导体存储装置,其特征在于具备:

字线及配线,能够经由传输晶体管而电连接;

第1升压电路,能够将输出电压升压至第1电压;

第2升压电路,能够将输出电压升压至低于所述第1电压的第2电压;

第1传输电路,能够将所述第1升压电路与所述配线之间电连接;

第2传输电路,能够将所述第2升压电路与所述配线之间电连接;以及

控制部;且

所述配线将所述第1传输电路与所述传输晶体管之间、及所述第2传输电路与所述传输晶体管之间电连接,

所述控制部在读出动作时,

经由所述第2传输电路而将所述第2升压电路与所述配线之间电连接,且使所述第2升压电路的向所述第2电压的升压开始,并且使所述第1升压电路的向所述第1电压的升压开始,

在所述字线为非选择的情况下,将所述第2升压电路与所述配线之间经由所述第2传输电路的连接电切断,且经由所述第1传输电路而将所述第1升压电路与所述配线之间电连接。

9.一种半导体存储装置,其特征在于具备:

字线及配线,能够经由传输晶体管而电连接;

第1升压电路,能够将输出电压升压至第1电压;

第1传输电路,能够将所述第1升压电路与所述配线之间电连接;

第2传输电路,能够将外部电源与所述配线之间电连接;以及

控制部;且

所述配线将所述第1传输电路与所述传输晶体管之间、及所述第2传输电路与所述传输晶体管之间电连接,

所述控制部在读出动作时,

经由所述第2传输电路而将所述外部电源与所述配线之间电连接,并且使所述第1升压电路的向所述第1电压的升压开始,

在所述字线为非选择的情况下,将所述外部电源与所述配线之间经由所述第2传输电路的连接电切断,且经由所述第1传输电路而将所述第1升压电路与所述配线之间电连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于铠侠股份有限公司,未经铠侠股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810094298.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top