[发明专利]一种大尺寸二氧化硅疏松体的制备装置

权利要求书

1.一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于：

所述的沉积炉内设置有至少一个或多个反应燃烧器排、至少一个烧结燃烧器、沉积基体，

其中，每个反应燃烧器排包括至少两个反应燃烧器。

2.根据权利要求1所述的一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于：

所述的反应燃烧器排为一字型。

3.根据权利要求1所述的一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于：

所述的烧结燃烧器，用于疏松体边缘的烧结，提高边缘密度和强度，所述的烧结温度为200-1400℃。

4.根据权利要求1所述的一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于；

还包括第一运动轨道，用于为所述的反应燃烧器排或沉积基体提供运动路径。

5.根据权利要求1所述的一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于：

所述的沉积基体包括沉积底托，沉积底托上部设置有沉积板。

6.根据权利要求1所述的一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于：

还包括移动平台，所述的移动平台通过连接构件与所述的沉积底托连接。

7.根据权利要求5所述的一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于：

还包括辅助加热装置，所述的辅助加热装置位于所述的沉积底托和沉积板之间。

8.根据权利要求1所述的一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于：

所述的沉积炉的腔体上设置有排气口，所述的排气口的数量为1个或多个。

9.根据权利要求8所述的一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于：

所述的排气口至少包括第一排气口和第二排气口，所述的第一排气口和第二排气口对称的设置在沉积炉的腔体的两侧。

10.根据权利要求9所述的一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于：

定义所述的第一排气口或第二排气口的水平中线为第一水平线，定义所述的沉积基体的上底面所在的水平线为第二水平线，垂直方向上，所述的第二水平线与所述的第一水平线的距离为0～500mm。