[发明专利]形成模板的衬底以及检测方法

权利要求书

1.一种圆形的形成模板的衬底，具有：

内部圆形模板作用区域和包围该内部圆形模板作用区域的外部环形区域，所述两个区域与衬底同心；

其中所述圆形的形成模板的衬底具有125mm至300mm的直径；

其中圆形模板作用区域是能够形成拓扑图案的区域；

其中圆形模板作用区域具有至多125mm的直径；

其中圆形模板作用区域的厚度变化为至多1μm；

其中圆形的形成模板的衬底满足关系：T≥C≥E，其中T为在具有125mm的直径的圆内的最厚的点t处的厚度，C为在其中心c处的厚度，且E为在线t-c的延伸与该圆交叉的远离t的点e处的厚度，其中点t首先接触接受衬底上的树脂层，点e最后接触接受衬底上的树脂层；

其中圆形的形成模板的衬底满足关系0.6μm≥T-E≥0.3μm；和

其中该衬底在整个表面上具有不大于10μm的厚度变化。

2.权利要求1的衬底，其中圆形的形成模板的衬底具有0.1-0.5mm的厚度。

3.权利要求1或2的衬底，其中衬底厚度T和E满足0.4μm≥T-E≥0.3μm。

4.权利要求1或2的衬底，为石英玻璃衬底。

5.经涂覆的衬底，其为如权利要求4所述的衬底，在其上具有用于形成转移图案的金属薄膜或抗蚀膜。

6.如权利要求1或2所述的衬底，其中在具有125mm的直径的圆内，任何表面缺陷具有0.5μm以下的尺寸。

7.权利要求1或2所述的衬底用于纳米压印光刻的用途。

8.一种用于检测形成模板的衬底的方法，包括检查衬底以确定其是否符合权利要求1或2的要求用以由此判断衬底合格或不合格。

9.制造形成模板的衬底的方法，包括通过对中间晶片进行粗抛光和精抛光而制备衬底并根据权利要求8进行检测。

10.根据权利要求9的方法，其中加工判断为合格的那些形成模板的衬底以形成具有所述拓扑图案的模板。

11.根据权利要求10的方法，其中用来形成模板的加工包括在衬底上形成金属薄膜或抗蚀膜，且将所述膜图案化。