[发明专利]一种等离子体活化水制备装置在审

专利信息
申请号: 201810090786.9 申请日: 2018-01-30
公开(公告)号: CN108383205A 公开(公告)日: 2018-08-10
发明(设计)人: 刘东平;杨柳 申请(专利权)人: 大连民族大学
主分类号: C02F1/46 分类号: C02F1/46
代理公司: 大连一通专利代理事务所(普通合伙) 21233 代理人: 秦少林
地址: 116000 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 等离子体活化 介质体 水制备装置 上层 等离子体放电 便于携带 拆卸组装 放电能量 放电要求 放电装置 活性物种 间隙空间 金属薄膜 金属电极 均匀致密 圆周阵列 装置能耗 介质管 耐用性 批量化 气泡流 放电 排出 气嘴 通孔 下层 制备 生产
【说明书】:

一种等离子体活化水制备装置,主要包括金属薄膜B、介质管A、气嘴、上层介质体A、上层介质体A、上层介质体B、金属电极、下层介质体B和O型密封圈。本发明间隙空间电场强度较强,大部分放电能量与放电时产生的活性物种都会注入到水溶液中,产生等离子体活化水的活性更强,同时提高了等离子体活化水的制备效率。通过特殊的结构设计,气泡会在圆周阵列的通孔处排出,在水溶液中形成均匀致密的气泡流,这种情况下等离子体放电状态更加稳定,放电装置耐用性更强。该装置能耗相对较低,适用范围广,且放电要求的条件更为简单,可以在不同环境下产生等离子体活化水,拆卸组装方便快捷,便于携带或批量化生产,有利于未来的产品化设计。

技术领域

本发明属于等离子体领域,尤其涉及一种等离子体活化水制备装置。

背景技术

目前,绿色、环保、无污染无残留的等离子体活化水的应用越来越广泛,等离子体活化水中含有OH·、NO3-、NO2-、ONOO-、H2O2等活性物质。使得等离子活化水技术在生物医学、农业、环保等领域都有十分重要的应用,应用等离子体活化水制备技术进行杀菌消毒的部分产品已经进入市场,具有产品化趋势。但是,目前水中放电装置基本都存在能耗大,放电状态不稳定,结构复杂,产品化困难等缺点。所以,在这里提供一种结构简单,能耗低,效率高,工作状态稳定的等离子体活化水制备装置。

发明内容

本发明的目的是提供一种方便组装,耐用性和实用性强的等离子体活化水制备装置。

本发明主要包括金属薄膜B、介质管A、气嘴、上层介质体A、下层介质体A、上层介质体B、金属电极、下层介质体B和O型密封圈。

其中,下层介质体B圆形平板,在下层介质体B的上表面设有圆环形凹槽,在下层介质体B的中部设有通孔,在下层介质体B圆形平板上设有螺纹孔。上层介质体A置于下层介质体B的上部。下层介质体A为圆形平板,在下层介质体A的中部设有通孔,在下层介质体A的上表面设有两道圆环形凹槽,下层介质体A下表面设有一道圆环形凹槽,下表面圆环形凹槽与下层介质体B的上表面的圆环形凹槽的位置相对应,且形成空腔,在空腔内设有金属电极。下层介质体A的上表面其中一道圆环形凹槽置于下层介质体A上表面的外侧,另一道圆环形凹槽的位置与下层介质体A下表面圆环形凹槽位置相对应。上层介质体A也为圆形平板,在上层介质体A的下表面设有弧形凸起,在上层介质体A的上表面设有若干气孔,气孔在上层介质体A的上表面呈圆周阵列式分布,在上层介质体A上表面的外侧设有圆环形凹槽。上层介质体A和下层介质体A同轴上下贴合,上层介质体A下表面弧形凸起与下层介质体A上表面中心之间有气体间隙,边缘预留空间设有O型密封圈。在上层介质体A的上部设有上层介质体B,上层介质体B为圆环形平板,上层介质体B与上层介质体A同轴相互贴合,在上层介质体B上设有螺纹孔,上层介质体B上的螺纹孔与下层介质体B的螺纹孔的位置和数量均相对应。下层介质体B和上层介质体B通过插接在螺纹孔内的螺杆连接。下层介质体B、下层介质体A和上层介质体B中部的通孔同轴且位置对应。在上层介质体A和上层介质体B之间设有竖直的介质管A,介质管A为上下开口的圆柱形壳体。介质管A下部与上层介质体A的上表面圆环形凹槽相互贴合,且在介质管A的内壁附有金属薄膜B,用以连接地电极。在上层介质体B和下层介质体A的中部通孔处设有气嘴,气嘴呈圆柱形,在气嘴的中部设有轴向通孔。

优选地,在下层介质体B和上层介质体B上螺纹孔的数量均为8个。

优选地,上层介质体A的上表面的气孔孔径为0.7mm。

优选地,上层介质体A和下层介质体A是由陶瓷制成,上层介质体B和下层介质体B是由聚四氟乙烯或者尼龙制成。

优选地,介质管A是由石英制成。

优选地,金属电极是由金属铜制成,金属薄膜是由金属锡制成。

优选地,上层介质体A与下层介质体A中间的圆形凹槽的垂直距离为0.5mm-1.5mm。

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