[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置

说明书

本发明提供能够良好地排除基板上的低表面张力液体的基板处理方法以及基板处理装置。该基板处理方法包括：基板保持工序，将基板保持为水平状态；处理液供给工序，向基板的上表面供给含有水的处理液；置换工序，向基板的上表面供给表面张力比水的表面张力低的低表面张力液体，由此利用低表面张力液体置换处理液；液膜形成工序，在置换工序后，继续向基板的上表面供给低表面张力液体，由此在基板的上表面形成低表面张力液体的液膜；开口形成工序，在液膜的中央区域形成开口；扩大排除工序，使开口向基板的周缘扩大，由此将液膜从基板的上表面排除；液膜接触工序，在开口形成工序开始后，使接近构件接近基板的周缘，由此使接近构件与液膜接触。

技术领域

本发明涉及处理基板的基板处理方法以及基板处理装置。作为处理对象的基板例如包括半导体晶圆、液晶显示装置用基板、有机EL(Electroluminescence：电致发光)显示装置等的FPD(Flat Panel Display：平板显示)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩膜用基板、陶瓷基板、太阳电池用基板等。

背景技术

在一张一张地处理基板的单张式基板处理装置的基板处理中，例如，向被旋转卡盘保持为大致水平的基板供给药液。然后，向基板供给冲洗液。由此，基板上的药液被置换为冲洗液。然后，进行用于排除基板上的冲洗液的旋转干燥工序。

如图14所示，在基板的表面形成有微细的图案的情况下，在旋转干燥工序中，可能无法将进入图案内部的冲洗液去除。由此，可能产生干燥不良。由于进入图案内部的冲洗液的液面(空气与液体的界面)形成在图案内，因此，液体的表面张力作用于液面与图案的接触位置。在该表面张力大的情况下，容易引起图案的倒塌。作为典型的冲洗液的水，表面张力大。因此，不能忽视旋转干燥工序中的图案的倒塌。

因此，考虑供给表面张力比水的表面张力低的低表面张力液体即异丙醇(Isopropyl Alcohol：IPA)，将进入图案的内部的水置换为IPA，然后去除IPA，由此，使基板的上表面干燥。

在日本特开2010-177371号公报所述的基板处理中，在基板上形成水的液膜后，利用IPA置换水的液膜。并且，通过吹送氮气而在IPA的液膜的中央部形成孔(开口)。由此，液膜变为环状。并且，通过基板的旋转使离心力作用于基板上的IPA，从而使环状的液膜的内径变大，由此，IPA的液膜被推出基板外。由此，从基板上去除IPA。

在通过使开口扩大而将IPA的液膜推出基板外的基板处理中，若开口的周缘接近基板的周缘，则位于基板的周缘的内侧的IPA推压位于基板的周缘的IPA的力变小。由此，位于基板的周缘的IPA难以被推出基板外。因此，有时，开口的扩大会在开口的周缘到达基板的周缘附近时停止，在基板的周缘残留IPA的液膜。在残留于基板的周缘的IPA蒸发时，若基板的周缘自然地干燥，则IPA的液面持续向图案作用表面张力。由此，可能会产生图案倒塌。

因此，在日本特开2010-177371号公报的基板处理中提出，在将IPA的液膜从基板上排除时，使基板以比较高的速度(700rpm)旋转。由此，离心力作用于IPA的液膜。因此，不仅从基板的上表面的中央附近排除IPA的液膜，也从基板的周缘排除IPA的液膜。但是，在通过使基板以高速度旋转而使IPA飞散至基板外的情况下，难以将进入基板的上表面的微细的图案内的IPA完全地去除。

发明内容

因此，本发明的一个目的在于，提供能够良好地排除基板上的低表面张力液体的基板处理方法以及基板处理装置。