[发明专利]一种金属线栅偏振片、其制作方法、显示面板及显示装置

说明书

本发明公开了一种金属线栅偏振片、其制作方法、显示面板及显示装置，依次通过光刻工艺与纳米压印工艺对二氧化硅膜层进行构图，使二氧化硅膜层形成纳米线栅结构，再通过形成纳米线栅结构的二氧化硅膜层作为掩模板，对金属层进行构图，使金属层形成纳米线栅结构。或依次通过光刻工艺和纳米压印工艺直接对金属层进行构图，使金属层形成纳米线栅结构。由于光刻工艺通过采用精密的定位控制技术和自动对准技术进行曝光，以实现大面积图像传递，且在光刻过程中不存在采用辊轮进行滚动加压的过程，因此可以使获得的图形不产生形变，以使保留区的尺寸与显示面板的面板区的尺寸对应，使采用上述方法制作的金属线栅偏振片与显示面板的对位精准度提高。

技术领域

本发明涉及偏振片技术领域，特别涉及一种金属线栅偏振片、其制作方法、显示面板及显示装置。

背景技术

一般液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)包括主要由阵列基板与彩膜基板构成的液晶显示面板，以及为液晶显示面板提供背光的背光源等部件。并且，一般液晶显示面板还设置有可以将入射光变成线性偏振光的金属线栅偏振片。为了保证显示效果，金属线栅偏振片的尺寸需要与液晶显示面板的面板区的尺寸一一对应设置。

现有技术中，制作金属线栅偏振片的方法为：在衬底基板母板上形成一层金属层，并采用纳米压印工艺对金属层进行构图，以得到具有纳米线栅结构的多个金属线栅偏振片区域，最后将这些金属线栅偏振片区域进行切割以形成独立的金属线栅偏振片。其中，一般采用纳米压印工艺对金属层进行构图，具体为：在金属层上形成压印胶膜层，采用纳米压印软模版对压印胶膜层进行压印，并采用辊轮对纳米压印软模版滚动加压，以使压印胶膜层可以压印上图案；刻蚀压印胶膜层与金属层，以使金属层形成多个金属线栅偏振片区域。然而，由于纳米压印软模版较软，在采用辊轮对其滚动加压时，会造成纳米压印软模版产生形变，从而导致压印到压印胶膜层上的图案也会产生形变，进而导致金属线栅偏振片区域的尺寸也会发生形变。因此在将得到的金属线栅偏振片应用于液晶显示面板中时，会存在金属线栅偏振片与液晶显示面板的面板区对位精准度降低的问题。

发明内容

本发明提供了一种金属线栅偏振片、其制作方法、显示面板及显示装置，用于解决采用现有制作方法制作的金属线栅偏振片与液晶显示面板对位精度降低的问题。

因此，本发明实施例提供了一种金属线栅偏振片的制作方法，包括：

在衬底基板母板的一侧依次形成金属层以及覆盖所述金属层的二氧化硅膜层；

采用光刻工艺对所述二氧化硅膜层进行构图，形成具有保留区与非保留区的二氧化硅膜层的图形；其中，所述保留区对应显示面板的面板区，所述非保留区用于暴露所述金属层；

采用纳米压印工艺对所述保留区中的二氧化硅膜层进行构图，使所述保留区中的二氧化硅膜层形成纳米线栅结构；其中，所述纳米线栅结构的间隙用于暴露所述金属层；

采用刻蚀工艺对与所述非保留区和所述纳米线栅结构的间隙对应区域的金属层进行刻蚀，使与所述保留区对应区域的金属层形成纳米线栅结构。

可选地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，采用光刻工艺对所述二氧化硅膜层进行构图，具体包括：

在形成有所述金属层和二氧化硅膜层的衬底基板母板上形成第一光刻胶膜层；

对所述第一光刻胶膜层曝光、显影后，形成与所述保留区对应区域的第一光刻胶膜层的图形，暴露出所述非保留区中的二氧化硅膜层；

采用刻蚀工艺，仅去除所述非保留区中的二氧化硅膜层；

剥离与所述保留区对应区域的第一光刻胶膜层。

可选地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，采用纳米压印工艺对所述保留区中的二氧化硅膜层进行构图，具体包括：