[发明专利]智能环境及安全监控方法及监控系统

说明书

本揭示揭露一种监控制造设施的环境及安全的监控方法及监控系统。在一实施方式中，监控方法包含：将自动化物料搬运系统(AMHS)载具由第一位置运输至第二位置，以及使用位于AMHS载具上的至少一感测器侦测至少一参数，以判断第一位置及第二位置间的至少一环境或安全条件。

技术领域

本揭示是关于一种监控方法及监控系统，特别是关于一种用以监控制造设施的环境及安全的监控方法及监控系统。

背景技术

加工产品的品质、一致性及成本取决于处理步骤及设备的表现的复杂组合。复杂的高价值产品的制造通常需要漫长的试误过程，而材料特性及/或制造设备在不同加工条件下的行为的不一致性及/或不确定性导致资源浪费。这些不一致性和不确定性至少部分是由环境条件造成的不利影响所导致，例如：在制造过程中引进或产生的污染物。此外，污染物如微米/纳米级悬浮微粒(小于100纳米至几微米)亦可能增加制造设施中的作业员的健康风险。

在典型的半导体制造设施中，污染物可以气体、化学蒸气、微米/纳米级悬浮微粒及气态分子污染物等形式产生。在无尘室中，含有各式离子种类的微米/纳米级悬浮微粒可能来至多个来源，包含人类行为(如:卫生、衣物等)、无尘室气流、设备、材料及纳米材料合成过程等。微米/纳米级悬浮微粒可以是直接被释放，或是在大气化学反应过程中形成，例如：蒸发被加热的化学物质/溶剂、由薄膜或其加工设备泄漏/释出的气体等。除了微米/纳米级悬浮微粒外，在半导体制程中，气态分子污染物(AMC)同样令人担心。此有机污染物可能对生产工具造成不利影响，因此提高制造设施营运商的成本。在无尘室环境中，AMC的水平主要产生自内部的溶剂及醋酸来源、二次吸入排出的气体、芳香族化合物及材料释气。此外，溢出、泄漏和处理不当可能发生，造成晶圆损耗及工具停机时间方面严重的代价。

一个理想的无污染制造环境可通过结合空气处理系统中的过滤解决方案及源头控制/监控与来实现。连续、线上及即时的污染物水平监控得帮助找出来源，稳定生产，并避免过滤单元的使用寿命意外地缩短。然而，在半导体制造设施环境中，传统的环境监控昂贵且耗时，样本收集仰赖人力部署，量测/表征仰赖专用的仪器。此外，传统监控技术并无提供连续、即时的监控，也就是说，当量测结果提供检阅时，半导体制造设施的状况可能已改变。

除了监控无尘室内污染物(如：类型、水平等)，亦需要密切注意及观察进出半导体制造设施的作业员及其他人员，包含访客及第三方承包商。传统的观测监视方法通常使用位于设施内预定位置的固定摄影机来实现，然而，装设大量的摄影机以达到充足的覆盖率可以是非常昂贵的。此外，此传统方法虽然可侦测未经授权的人员或活动，但并未提供机会以侦测未经授权的通讯，如：视频/图片录制、语音通讯及文件上传/下载。

因此，需要一种更简单、更快速及更便宜的科技来实现半导体制造设施中环境污染物水平及安全的即时监控。

发明内容

依据本揭示的一些实施方式，一种监控方法，用以监控制造设施内的环境与安全。监控方法包含：将自动化物料搬运系统载具由第一位置运输至第二位置，以及使用位于自动化物料搬运系统载具上的至少一感测器侦测至少一参数，以判断第一位置及第二位置之间的至少一环境或安全条件。

依据本揭示的一些实施方式，一种监控系统，用以监控制造设施内的环境与安全。监控系统包含载具。载具配置以自动地装载、卸载及运输至少一晶圆。载具配置以携带至少一感测器。当载具在制造设施中运输时，至少一感测器配置以判断至少一环境或安全条件。

依据本揭示的一些实施方式，一种监控系统，用以监控制造设施内的环境与安全。监控系统包含自动化载具、至少一污染物感测器以及至少一安全感测器。污染物感测器耦接至自动化载具。安全感测器耦接至自动化载具。

附图说明

当结合附图阅读时，从以下详细描述可以理解本揭示案的各态样。值得注意的是，各特征件并未按比例绘制。事实上，为了论述的清楚性，可以任意地增大或缩小各特征件的尺寸及几何形状。