[发明专利]显影装置以及图像形成装置在审

专利信息
申请号: 201810083694.8 申请日: 2018-01-29
公开(公告)号: CN108375883A 公开(公告)日: 2018-08-07
发明(设计)人: 古田达也;斋藤裕行;石川哲也;川崎智广;五十里亮英;洼田爱子 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李洋;杨林森
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显影剂 搬运 显影装置 显影位置 图像形成装置 收容 担载体 开口部 合流 担载 显影剂担载体 静电潜像 显影剂量 对置 显影 重影 连通 溢出 配置
【说明书】:

本发明涉及显影装置以及图像形成装置,即使显影装置内的显影剂量增加,也稳定地防止重影的产生。显影装置(50)具备:第一存积部(541),收容显影剂;第一搬运部(521、522),设置于第一存积部(541)内且搬运显影剂;显影剂担载体(53),与像担载体对置地配置,且担载从第一搬运部(521、522)搬运的显影剂,并将所担载的显影剂搬运到对形成于像担载体(32)的静电潜像进行显影的显影位置;第二存积部(542),收容经过显影位置搬运的显影剂,通过合流开口部(93)与第一存积部(541)连通;第二搬运部(523),设置于第二存积部(542)内,将经过显影位置搬运的显影剂朝向合流开口部(93)搬运;以及第三存积部(543),在第二存积部(542)内的显影剂成为规定量以上的情况下,收容溢出的显影剂。

技术领域

本发明涉及显影装置以及图像形成装置。

背景技术

以往,作为使用电子照片方式的图像形成装置中的显影方式,已知使用混合了调色剂和载体的双组份显影剂的双组份显影方式。

在双组份显影方式的显影装置中,一般构成为设置将所补充的调色剂与双组份显影剂混合并搅拌的存积部,从该存积部向显影辊供给显影剂,并且使在显影辊的显影位置处消耗了调色剂后的显影剂再次返回到存积部。

例如,在专利文献1中公开了一种显影装置,两根搬运方向彼此反向的搬运螺杆在内部被配置成相互处于上下,将作为通过在两个螺杆的两端部侧设置的连通口循环搬运显影剂的存积部的循环搬运路径与显影辊相邻地设置。

在专利文献1这样的通过搬运螺杆向显影辊供给显影剂的构成中,存在由于供给不匀匀而产生图像浓度不匀的情况。

例如,在专利文献2所公开的显影装置中,为了防止由于向显影辊供给显影剂的搬运螺杆的螺杆间距所导致的显影剂供给不匀而引起的图像浓度不匀,与供给用的搬运螺杆对置地设置缓冲室和刮平部,实现轴向上的搬运螺杆对显影辊的显影剂供给量的均匀化。

专利文献1:日本特开平10-228175号公报

专利文献2:日本特开2012-42839号公报

另外,作为由于显影辊的显影剂的供给而引起的图像浓度不匀,除上述以外有所谓的重影(也称为显影虚像)。重影是指由于显影辊所担载的显影剂的每1次旋转的更换不充分而产生的浓度不匀。该现象是由于如下的原因而产生的,即,在显影位置处消耗显影辊所担载的显影剂的调色剂来在感光体上形成调色剂图像时,在显影辊表面上,由于在前次的旋转消耗调色剂所产生的影响在下次的旋转中仍然残留。

尤其是在如专利文献1所公开的显影装置中,若搬运从显影辊剥取并回收的显影剂的搬运螺杆侧的显影剂量变多,则变多的显影剂妨碍从显影辊剥取的显影剂的流动,导致剥取性降低。因此,显影辊所担载的显影剂的更换变得不充分,容易产生重影。

另外,专利文献2所公开的显影装置控制供给至显影辊侧的搬运螺杆上的显影剂量,并不控制回收侧的搬运螺杆处的显影剂量。

发明内容

本发明是鉴于上述状况而完成的,其目的在于提供即使显影装置内的显影剂量增加,也能够稳定地防止重影的产生的显影装置以及图像形成装置。

本发明的上述目的由下述的手段实现。

(1)一种显影装置,具备:

第一存积部,收容显影剂;

第一搬运部,设置于上述第一存积部内,且搬运显影剂;

显影剂担载体,与像担载体对置地配置,担载从上述第一搬运部搬运的显影剂,并将所担载的显影剂搬运到对形成于上述像担载体的静电潜像进行显影的显影位置;

第二存积部,收容经过上述显影位置搬运的显影剂,通过合流开口部与上述第一存积部连通;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于柯尼卡美能达株式会社,未经柯尼卡美能达株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810083694.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top