[发明专利]一种PCB板高分子导电膜的制备工艺有效

专利信息
申请号: 201810081731.1 申请日: 2018-01-29
公开(公告)号: CN108221010B 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: 黄祖嘉 申请(专利权)人: 莆田市佳宜科技股份有限公司
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38;C25D3/30;C25D5/56
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 351117 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 pcb 高分子 导电 制备 工艺
【权利要求书】:

1.一种PCB板高分子导电膜的制备工艺,其特征在于,包括Desmear工序和DMSE工序;所述Desmear工序包括以下步骤:

(1)膨胀:采用NaOH 80-120g/L,ST-101A 180-300mL/L处理,温度控制在78-82℃;

(2)三水洗;

(3)除胶:采用KMnO4 60-80g/L,NaOH 40-50g/L处理,温度为80-88℃;

(4)三水洗;

(5)中和:采用50%的H2SO4 60-70mL/L,35%的H2O2 50-70mL/L,Cu2+≤20g/L处理,温度为20-30℃;

(6)三水洗;

所述DMSE工序包括以下步骤:

(1)敏化;

(3)催化,所述催化具体为:采用350g/L的高锰酸钠水溶液,开槽配比为200mL/L,硼酸开槽配比为10.0g/L,温度为85-95℃;

(5)聚合;所述聚合具体为:采用A液:3-4-乙烯二氧噻吩1kg溶于三苯乙烯基苯酚聚氧乙烯聚氧丙烯醚2kg,加入7.5L水配成10L溶液,开槽配比为15mL/L,B液N-甲基-2-吡咯烷酮,配成10%的水溶液,开槽比10mL/L,温度选择为18-22℃;

(6)三水洗;

(7)烘干,出板;

所述三水洗中的具体参数为:电导率<100us/cm2,氯离子<100ppm,pH值5-8,流量≥8L/min,水洗压力1.5-2.5kg/cm2;所述敏化采用20wt%的硫酸甲酯均聚物水溶液配成10%的水溶液,开槽配比为30mL/L,N-甲基-2-吡咯烷酮,配成10%的水溶液,开槽比10mL/L,碳酸钠,开槽比为5.0g/L,温度选择为55-65℃。

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