[发明专利]一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构在审

专利信息
申请号: 201810079005.6 申请日: 2018-01-26
公开(公告)号: CN110082856A 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 余忠伟;林磊;蔡光明;郑彬 申请(专利权)人: 福州高意光学有限公司
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 戴雨君
地址: 350000 福建省福州*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 相位掩模板 光栅 刻写 光纤光栅 光纤定位槽 多根光纤 紫外光束 定位槽 多光纤 裸光纤 均匀排布 生产效率 所在平面 衍射区域 产能 近场 平行 光纤 曝光 制作
【权利要求书】:

1.一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构,其特征在于:相位掩模板具有光栅侧和非光栅侧,相位掩模板的非光栅侧间隔设有多个光纤定位槽,多根裸光纤定位在相位掩模板非光栅侧定位槽内,多根裸光纤所在平面平行于相位掩模板。

2.根据权利要求1所述的一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构,其特征在于:所述相位掩模板的多个光纤定位槽等间距均匀分布。

3.根据权利要求1所述的一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构,其特征在于:所述相邻光纤定位槽的中心之间的间距为L,L≥D,D为涂层区域光纤直径。

4.根据权利要求1所述的一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构,其特征在于:所述光纤定位槽的槽宽度等于裸光纤直径d。

5.根据权利要求1所述的一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构,其特征在于:所述光纤定位槽的深度满足裸光纤纤落于定位槽底端时,各裸光纤位于相位掩模板光栅的近场衍射范围内,且相位掩模板光栅侧与光纤定位槽底部之间的间距少于0.03mm。

6.根据权利要求1所述的一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构,其特征在于:所述裸光纤位于相位掩模板非光栅侧的光纤定位槽内时,裸光纤壁面与光纤定位槽底部间距为0。

7. 根据权利要求1所述的一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构,其特征在于:所述对应相位掩模板光栅侧设有紫外光束,紫外光束对多根裸光纤同时进行曝光;所述紫外光束纵向尺寸至少为(n-1)*L+d,d为裸光纤直径,n为同时刻写光纤根数, n为大于1的整数。

8.根据权利要求1所述的一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构,其特征在于:还包括相位掩模板夹具,相位掩模板夹具将相位掩模板固定为整体使用。

9.根据权利要求8所述的一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构,其特征在于:所述相位掩模板夹具的相对两侧分别设有光纤夹持装置,多根裸光纤光栅的尾端通过光纤夹持装置进行固定定位。

10.根据权利要求1所述的一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构,其特征在于:所述光纤定位槽为U型光纤定位槽。

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