[发明专利]X射线成像装置及其控制方法

权利要求书

1.一种X射线成像装置，包括：

X射线源(110)，被配置为根据包括管电压、管电流、暴露时间和过滤器的X射线照射条件来生成和照射X射线；

显示器(150)，被配置为提供图形用户界面以接收关于所述X射线照射条件的选择；以及

控制器(140)，被配置为基于所选择的X射线照射条件获得参数，并且控制所述显示器显示所述参数，

其特征在于

所述参数是与已经透射所述过滤器的X射线相对应的经转换的管电流量(151c-3)、已经透射所述过滤器的X射线的剂量(151c-4)、和未透射所述过滤器的X射线的剂量与已经透射所述过滤器的X射线的剂量的转换比率R1(151c-5)中的一个，

其中，所述参数表示过滤器的影响被反应到其的辐射剂量，并且所述经转换的管电流量由用户选择的管电流量乘以所述转换比率R1＝E1/E2给出，

其中，E1是与所选择的管电压和过滤器相对应的每管电流量的剂量，并且E2是当不使用过滤器时与所选择的管电压相对应的每管电流量的剂量。

2.根据权利要求1所述的X射线成像装置，其中，所述显示器被配置为以数字值、或者表示所述数字值的示图或图像显示所述参数。

3.根据权利要求1所述的X射线成像装置，还包括：存储装置(170)，被配置为通过区分所述过滤器的类型或厚度来存储每管电流量的剂量与管电压之间的关系，其中管电流量的单位是mAs。

4.根据权利要求3所述的X射线成像装置，其中，所述控制器被配置为当输入所述X射线照射条件的选择时，在所述存储装置中搜索与所选择的X射线照射条件相对应的每管电流量的剂量。

5.根据权利要求4所述的X射线成像装置，其中，所述控制器被配置为搜索与当在所选择的X射线照射条件下不使用过滤器时的场合相对应的每管电流量的剂量。

6.根据权利要求4所述的X射线成像装置，其中，所述控制器被配置为基于与所选择的X射线照射条件相对应的每管电流量的剂量和在所选择的X射线照射条件中包括的管电流量来获得已经透射所述过滤器的X射线的剂量。

7.根据权利要求1所述的X射线成像装置，其中，所述控制器被配置为当成像协议或者对象的尺寸中的至少一个被选择时，控制所述显示器显示与所选择的、成像协议或对象的尺寸中的至少一个相对应的基本X射线照射条件。

8.根据权利要求7所述的X射线成像装置，其中，所述控制器被配置为基于所述基本X射线照射条件来获得表示所述过滤器的影响被反映到其的剂量的参数。

9.根据权利要求1所述的X射线成像装置，其中，所述控制器被配置为每当所述X射线照射条件的选择被改变时，重新获得表示所述过滤器的影响被反映到其的辐射剂量的参数，并且控制所述显示器显示所述参数。

10.一种X射线成像装置的控制方法，所述方法包括：

提供图形用户界面，所述图形用户界面被配置为接收包括管电压、管电流、暴露时间和过滤器的X射线照射条件的选择；

基于所选择的X射线照射条件，获得参数；以及

将所获得的参数显示在显示器上，

其特征在于

所述参数是与已经透射所述过滤器的X射线相对应的经转换的管电流量(151c-3)、已经透射所述过滤器的X射线的剂量(151c-4)、和未透射所述过滤器的X射线的剂量与已经透射所述过滤器的X射线的剂量的转换比率R1(151c-5)中的一个，

其中，所述参数表示过滤器的影响被反应到其的辐射剂量，并且所述经转换的管电流量由用户选择的管电流量乘以所述转换比率R1＝E1/E2给出，

其中，E1是与所选择的管电压和过滤器相对应的每管电流量的剂量，并且E2是当不使用过滤器时与所选择的管电压相对应的每管电流量的剂量。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，将所获得的参数显示在显示器上包括：

以数字值、或者表示所述数字值的示图或图像显示所述参数。