[发明专利]一种彩膜基板、其制作方法及显示面板在审
| 申请号： | 201810069606.9 | 申请日： | 2018-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN108267883A | 公开（公告）日： | 2018-07-10 |
| 发明（设计）人： | 彭宽军;李小龙;徐智强;滕万鹏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G09F9/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 量子点 彩膜 反射结构 显示面板 侧表面 彩膜基板 衬底基板 像素区域 出光面 出射 反射 制作 照射 | ||
1.一种彩膜基板，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上像素区域内的量子点彩膜；其特征在于，所述量子点彩膜的侧表面上设置有反射结构。
2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述反射结构为沉积在所述量子点彩膜的侧表面上的金属膜。
3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：位于所述量子点彩膜下面的树脂层；所述反射结构延伸至所述树脂层，并覆盖所述树脂层的侧表面。
4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述量子点彩膜的侧表面为在背离所述衬底基板的方向上曲率逐渐增大的弧面，以使得所述反射结构沉积在所述弧面上。
5.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述量子点彩膜的侧表面为与背离所述衬底基板的方向呈锐角的斜面，以使得所述反射结构沉积在所述斜面上。
6.如权利要求1-5任一项所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：设置在所述像素区域之间的黑矩阵，所述黑矩阵覆盖所述反射结构。
7.如权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，在所述反射结构的间隙处通过沉积和构图工艺形成所述黑矩阵。
8.一种如权利要求1-7任一项所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板的像素区域内形成量子点彩膜；
在所述量子点彩膜的侧表面上形成反射结构。
9.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，在所述衬底基板的像素区域内形成量子点彩膜之前，还包括：在所述衬底基板的像素区域内形成树脂层；所述在所述量子点彩膜的侧表面上形成反射结构，具体包括：
通过曝光、显影、刻蚀工艺使所述树脂层的侧表面和所述量子点彩膜的侧表面一体成型为在背离所述衬底基板的方向上曲率逐渐增大的弧面；在所述量子点彩膜所在层上沉积金属膜，并对所述金属膜进行刻蚀，以保留所述弧面上的所述金属膜；
或者通过曝光、显影、刻蚀工艺使所述树脂层的侧表面和所述量子点彩膜的侧表面一体成型为与背离所述衬底基板的方向呈锐角的斜面；在所述量子点彩膜所在层上沉积金属膜，并对所述金属膜进行刻蚀，以保留所述斜面上的所述金属膜。
10.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述的彩膜基板。
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