[发明专利]掩模组件、掩模框架以及掩模支撑架有效

专利信息
申请号: 201810068510.0 申请日: 2018-01-24
公开(公告)号: CN108034923B 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 蒋谦;陈永胜 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 钟子敏
地址: 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 模组 框架 以及 支撑架
【权利要求书】:

1.一种掩模组件,其特征在于,所述掩模组件包括掩模框架和掩模支撑架;

所述掩模框架包括至少一个第一连接部,所述掩模框架的一侧表面形成有凸台,所述凸台的表面与所述掩模框架的框体的一侧表面直接形成一道斜坡,所述第一连接部形成于所述凸台上;

所述掩模支撑架包括至少一个第二连接部,所述掩模支撑架的一侧表面上形成有焊接部;

所述掩模框架和所述掩模支撑架通过所述第一连接部和所述第二连接部可拆卸连接;

其中,所述掩模框架的所述凸台的上表面与所述掩模支撑架的下表面抵触连接。

2.根据权利要求1所述的掩模组件,其特征在于,所述第一连接部为第一固定孔,所述第二连接部为第二固定孔,所述掩模框架与所述掩模支撑架通过所述第一固定孔、固定件以及所述第二固定孔的配合连接;或者所述第一连接部为第一凸起部或第一凹槽,所述第二连接部为第二凹槽或第二凸起部,所述掩模框架与所述掩模支撑架通过所述第一凸起部和所述第二凹槽卡合连接或通过所述第一凹槽和所述第二凸起部卡合连接。

3.根据权利要求1所述的掩模组件,其特征在于,所述掩模框架的所述凸台的上表面与所述掩模支撑架的下表面抵触连接,且所述凸台的上表面与所述掩模支撑架的下表面形状相同。

4.一种掩模框架,其特征在于,所述掩模框架的一侧表面形成有凸台,所述凸台的表面与所述掩模框架的框体的一侧表面直接形成一道斜坡;

其中,所述掩模框架为一框体,其上形成有至少一个第一连接部,以可拆卸连接掩模支撑架,所述第一连接部形成于所述凸台上,所述凸台与所述掩模支撑架连接。

5.根据权利要求4所述的掩模框架,其特征在于,所述第一连接部为第一固定孔,所述掩模框架通过第一固定孔与固定件的配合与所述掩模支撑架连接;或者所述第一连接部为凸起部或凹槽,所述凸起部或凹槽与所述掩模支撑架卡合连接。

6.一种掩模支撑架,其特征在于,所述掩模支撑架为框体,并包括第二连接部,所述第二连接部用于与掩模框架可拆卸连接,所述掩模支撑架的一侧表面上形成有焊接部。

7.根据权利要求6所述的掩模支撑架,其特征在于,所述第二连接部为第二固定孔,所述掩模支撑架通过第二固定孔与固定件的配合与所述掩模框架连接;或者所述第二连接部为凸起部或凹槽,所述凸起部或凹槽与所述掩模框架卡合连接。

8.根据权利要求7所述的掩模支撑架,其特征在于,所述掩模支撑架包括具有预设图案的金属薄片,所述金属薄片连接于所述掩模支撑架的焊接部。

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