[发明专利]一种电场作用下油中水滴微观特征的实验系统及方法

权利要求书

1.一种电场作用下油中水滴微观特征的实验系统，其特征是，包括基座、纵向滑块、横向滑块、高速摄像仪、光学镜头、控温样槽部、光源部；

所述基座的上表面固定设置纵向限位挡块，所述纵向限位挡块沿基座的宽度方向设置；所述纵向限位挡块左侧面的中部垂直设置纵向丝杠，所述纵向丝杠与纵向限位挡块进行转动连接；所述基座上设有纵向导向装置；

所述纵向滑块前侧面的中部设有纵向螺纹孔，所述纵向螺纹孔贯穿纵向滑块的前、后侧面；所述纵向滑块通过纵向螺纹孔与纵向丝杠进行螺纹连接，所述纵向滑块在纵向丝杠的作用下沿纵向导向装置实现在基座上的纵向滑动；所述纵向滑块的右端向上凸起形成横向限位挡块，所述横向限位挡块左侧面的中部垂直设置横向丝杠，所述横向丝杠与横向限位挡块进行转动连接；所述纵向滑块上设有横向导向装置；

所述横向滑块前侧面的中部设有横向螺纹孔，所述横向螺纹孔贯穿横向滑块的前、后侧面；所述横向滑块通过横向螺纹孔与横向丝杠进行螺纹连接，所述横向滑块在横向丝杠的作用下沿横向导向装置实现在纵向滑块上的横向滑动；所述横向滑块的上表面上设置方型卡槽；所述横向滑块上表面的右端设有镜头架，所述镜头架上设有弧形卡槽；

所述高速摄像仪放置在方型卡槽内；所述高速摄像仪与光学镜头连接，所述光学镜头卡在镜头架上的弧形卡槽内；高速摄像仪还与图像采集计算机相连；

所述光源部包括光源固定座、光源、遮光罩；所述光源固定座固定设置在基座上表面的右端，所述光源设置在光源固定座上，所述光源的头部设有遮光罩，所述遮光罩由反光镜制成；所述光源与光学镜头同轴相向设置；

所述控温样槽部包括支架及样槽装置，所述支架放置在基座上，所述支架位于光学镜头与光源之间；所述支架上表面上设置样槽卡座；所述样槽装置放置在样槽卡座内，所述样槽装置包括呈U型结构的有机玻璃骨架，所述有机玻璃骨架的前、后侧面固定设置光学玻璃，所述光学玻璃与光学镜头的中心轴线相垂直；所述有机玻璃骨架的内侧面对称设置电极板，所述电极板的外表面包覆绝缘盖板；所述有机玻璃骨架、光学玻璃、绝缘盖板之间的空间为实验样槽；

所述有机玻璃骨架内部设置热媒加热通道，所述热媒加热通道呈蛇形管结构；所述有机玻璃骨架的左侧上部设有热媒入口管，所述有机玻璃骨架的右侧上部设有热媒出口管，所述热媒加热通道的两端分别与热媒入口管、热媒出口管联通。

2.如权利要求1所述的一种电场作用下油中水滴微观特征的实验系统，其特征是，所述纵向导向装置包括平行设置的两根纵向导向柱，两根纵向导向柱对称设置于纵向丝杠的两侧，所述纵向导向柱的一端与纵向限位挡块垂直固定连接；所述纵向滑块的前侧面设有两个纵向导向孔，所述纵向导向孔贯穿纵向滑块的前、后侧面；所述纵向导向柱与纵向导向孔进行滑动配合。

3.如权利要求1所述的一种电场作用下油中水滴微观特征的实验系统，其特征是，所述纵向导向装置包括平行设置的两根纵向倒梯形导轨，两根纵向倒梯形导轨对称设置于纵向丝杠的两侧，所述纵向倒梯形导轨设置于基座的上表面，所述纵向倒梯形导轨的一端与纵向限位挡块垂直固定连接；所述纵向滑块的底面设有两个纵向燕尾槽，所述纵向燕尾槽贯穿纵向滑块的前、后侧面；所述纵向倒梯形导轨与纵向燕尾槽进行滑动配合。

4.如权利要求1所述的一种电场作用下油中水滴微观特征的实验系统，其特征是，所述纵向导向装置包括平行设置的两个纵向半圆形凹槽，两个纵向半圆形凹槽对称设置于纵向丝杠的两侧，所述纵向半圆形凹槽设置于基座的前、后侧面；所述纵向滑块底面的两端向下设有滑块，两个滑块的内侧对称设置纵向半圆形凸起；所述纵向半圆形凹槽与纵向半圆形凸起进行滑动配合。

5.如权利要求1所述的一种电场作用下油中水滴微观特征的实验系统，其特征是，所述横向导向装置包括平行设置的两根横向导向柱，两根横向导向柱对称设置于横向丝杠的两侧，所述横向导向柱的一端与横向限位挡块垂直固定连接；所述横向滑块的前侧面设有两个横向导向孔，所述横向导向孔贯穿横向滑块的前、后侧面；所述横向导向柱与横向导向孔进行滑动配合。