[发明专利]一种减少彩虹现象发生的LCD生产工艺方法

说明书

本发明涉及一种减少彩虹现象发生的LCD生产工艺方法，所述LCD工艺方法包括投料阶段、PR前清洗阶段、涂胶阶段、曝光阶段、显影/竖膜阶段、酸刻阶段、脱模阶段、移印前清洗阶段、PI移印阶段、PI固化阶段、摩擦清洗阶段、导电点/边框加印阶段、贴合阶段及热压阶段，其特征在于：所述涂胶阶段中，测量胶水的宽度W和高度D，计算出胶水的横截面积S，测量胶水横截面积S后，根据胶水宽度监测模型V＝SW，通过胶水的注入量V对涂胶宽度W进行监测。本发明通过对现有生产工艺的改进，建立涂胶模型，对胶水的宽度进行监控，减少LCD彩虹现象的发生。

技术领域

本发明涉及一种减少彩虹现象发生的LCD生产工艺方法，涉及显示器制造技术。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)是在20世纪80年代首先由日本厂商进行大规模生产的新型平板显示器件，以其功耗低、辐射弱、寿命长、体积小、重量轻和全彩化等诸多优点，逐渐取代传统显示器成为主流的显示设备，被广泛应用于笔记本电脑、监视器、手机、电视等设备上。

LCD的构造是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶盒，下基板玻璃上设置TFT(薄膜晶体管)，上基板玻璃上设置彩色滤光片，通过TFT上的信号与电压改变来控制液晶分子的转动方向，从而达到控制每个像素点偏振光出射与否而达到显示目的。由于其制造工艺复杂,在制造过程中会出现各种显示缺陷如：点缺陷、线缺陷、MURA缺陷等，显示缺陷严重影响产品的总体良率和生产效率,其中彩虹现象是液晶显示器的致命缺陷，表现为封口彩虹、边框彩虹及底色偏差。边框彩虹又表现为整体边框彩虹、点状边框彩虹及单片边框彩虹，经过调查分析发现，胶水的均匀性是LCD边框彩虹产生的主要原因，因此需要对现有的LCD生产工艺进行改进。

发明内容

本发明针对现有技术存在的不足，提供一种减少彩虹现象发生的LCD生产工艺方法，通过对现有生产工艺的改进，建立涂胶模型，对胶水的宽度进行监控，减少LCD彩虹现象的发生。

本发明解决上述技术问题的技术方案如下：一种减少彩虹现象发生的LCD生产工艺方法，所述LCD工艺方法包括投料阶段、PR前清洗阶段、涂胶阶段、曝光阶段、显影/竖膜阶段、酸刻阶段、脱模阶段、移印前清洗阶段、PI移印阶段、PI固化阶段、摩擦清洗阶段、导电点/边框加印阶段、贴合阶段及热压阶段，所述涂胶阶段中，测量胶水的宽度W和高度D，计算出胶水的横截面积S，测量胶水横截面积S后，根据胶水宽度监测模型V＝SW，通过胶水的注入量V对涂胶宽度W进行监测。

如上所述的一种减少彩虹现象发生的LCD生产工艺方法，所述导电点/边框加印阶段采用边框平均粒子径为5.74μm。

如上所述的一种减少彩虹现象发生的LCD生产工艺方法，所述胶水的宽度W和高度D通过胶高测量仪测量，采用光学3D表面轮廓干涉仪监测胶水的宽度W。

如上所述的一种减少彩虹现象发生的LCD生产工艺方法，所述PI移印阶段、贴合阶段环境质量达到100级。

如上所述的一种减少彩虹现象发生的LCD生产工艺方法，所述曝光阶段在涂抹好光刻胶的玻璃表面覆盖掩膜版，利用平行紫外光进行选择性照射，使光照部位的光刻胶发生化学反应。

如上所述的一种减少彩虹现象发生的LCD生产工艺方法，所述显影/竖膜阶段采用NaOH溶液喷淋曝光玻璃表面，溶解掉曝光后的光刻胶，通过纯水进行清洗，再通过热板竖膜使显影后的光刻胶图案粘附在ITO玻璃上。

如上所述的一种减少彩虹现象发生的LCD生产工艺方法，所述酸刻阶段采用酸刻液对暴露的ITO导电层进行喷淋腐蚀，保留光刻胶覆盖的ITO；所述酸刻液体积配比为DIW：HCL：HNO3＝1:1:0.085。

如上所述的一种减少彩虹现象发生的LCD生产工艺方法，LCD生产工艺方法中，环境温度为22-25℃之间，湿度在50％～60％之间。