[发明专利]一种加热装置及光刻设备有效
申请号: | 201810056859.2 | 申请日: | 2018-01-19 |
公开(公告)号: | CN107966886B | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 毛元杰;卢凯;李京鹏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/38 | 分类号: | G03F7/38;G03F7/40 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 贾莹 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 加热 装置 光刻 设备 | ||
本申请实施例提供一种加热装置及光刻设备,涉及显示技术领域,用于解决前烘或后烘工艺结束后,玻璃基板与加热盘不容易分离的问题。该加热装置包括加热盘;加热盘包括多个子加热部;相邻的子加热部通过活动连接件相连接,相邻两个子加热部通过活动连接件折叠或展开;加热装置还包括多个定位部,定位部位于相邻两个子加热部相接的位置,定位部用于限定相邻的子加热部之间的夹角。该加热装置用于对衬底基板进行加热。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种加热装置及光刻设备。
背景技术
TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管-液晶显示器)作为一种平板显示装置,因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点,而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。
TFT-LCD在制作的过程中,为了形成预设的薄膜图案,需要对薄膜层进行光刻工艺。其中,在上述光刻工艺中,在玻璃基板上涂覆光刻胶之后,需要对光刻胶进行前烘(SoftBake)、曝光、显影以及后烘(Hard Bake)工艺。
现有技术中,采用加热盘对玻璃基板进行加热以达到对光刻胶进行前烘或后烘。然而,由于玻璃基板与加热盘之间的吸附力较大,因此当前烘或后烘工艺结束后,需要使用较大的力将玻璃基板与加热盘分离,从而容易导致玻璃基板碎裂,降低产品质量。
发明内容
本发明的实施例提供一种加热装置及光刻设备,用于解决前烘或后烘工艺结束后,玻璃基板与加热盘不容易分离的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
本申请实施例的一方面,提供一种加热装置,包括加热盘;所述加热盘包括多个子加热部;相邻的所述子加热部通过活动连接件相连接,相邻两个所述子加热部通过所述活动连接件折叠或展开;所述加热装置还包括多个定位部,所述定位部位于相邻两个所述子加热部相接的位置,所述定位部用于限定相邻的所述子加热部之间的夹角。
可选的,所述定位部设置于与所述加热盘的承载面相对的一侧;所述加热装置还包括与所述定位部背离所述加热盘的一端相连接的第一升降机构;所述第一升降机构用于驱动所述定位部沿垂直于所述加热盘承载面的方向运动。
可选的,所述加热装置还包括多个支撑柱;所述子加热部上设置有用于穿过所述支撑柱的过孔。
可选的,所述加热装置还包括与所述支撑柱背离所述加热盘的一端相连接的第二升降机构;所述第二升降机构用于驱动所述支撑柱沿垂直于所述加热盘承载面的方向运动。
可选的,所述活动连接件为铰接件。
可选的,所述子加热部为条状,且多个所述子加热部并排设置。
可选的,所述子加热部上设置有真空吸附孔;所述加热装置还包括真空吸附装置,所述真空吸附装置的吸风口的位置与所述真空吸附孔的位置相对应。
可选的,所述子加热部内部排布有水管。
可选的,所述多个支撑柱分布均匀。
本申请实施例的又一方面,提供一种光刻设备包如上所述的任意一种加热装置。
本申请实施例提供一种加热装置及光刻设备,当前烘或后烘工艺结束后,该加热装置中的加热盘无需对衬底基板上的光刻胶进行加热,此时,此时加热盘中的各个子加热部在定位部的限定作用下,受到重力的作用,无法保持水平状态,而发生倾斜。这样一来,加热盘的承载面与衬底基板之间具有较大的空隙,周围的空气进入上述空隙中,从而能够减小加热盘与衬底基板之间的吸附力,此时,使用较小的力就可以将衬底基板与加热盘分离,从而能够减小衬底基板发生碎裂的几率,提高产品质量。
附图说明
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