[发明专利]一种新型AG玻璃及其生产工艺

权利要求书

1.一种新型AG玻璃，其特征在于：包括基板（1）和膜层组，所述膜层组包括成形于所述基板 (1) 上的八个膜层，由下而上依次是ITO膜层A（2）、氟化镁膜层A（3）、ITO膜层B（4）、氟化镁膜层B（5）、ITO膜层C（6）、氟化镁膜层C（7）、ITO膜层D（8）和氟化镁膜层D（9）。

2.根据权利要求1所述的一种新型AG玻璃，其特征在于：所述ITO膜层A（2）的厚度为13.19nm，氟化镁膜层A（3）的厚度为32.35nm、ITO膜层B（4）的厚度为142.84nm、氟化镁膜层B（5）的厚度为28.54nm、ITO膜层C（6）的厚度为33.35nm、氟化镁膜层C（7）的厚度为30.5nm,ITO膜层D（8）的厚度为130.3nm、氟化镁膜层D（9）的厚度为89.74nm。

3.根据权利要求1所述的一种新型AG玻璃，其特征在于：所述基板（1）为BF33玻璃。

4.一种如权利要求1所述的新型AG玻璃的生产工艺,其特征在于，包含以下制备步骤 :

a)、 将BF33玻璃基板（1）装在清洗夹具上，进入自动超声清洗机清洗，经除油，四道纯水超声清洗后，慢拉脱水烘干；

b)、 将经过步骤 a)处理后的BF33玻璃，镀前检查，并装入镀膜夹具；

c)、 装进镀膜机后，抽真空至5.0E-4帕，同时加热至250-300℃；

d)、按照以下设定的镀膜参数和厚度参数进行镀膜：

第一层镀ITO膜层A（2），厚度为13.19nm；

第二层镀氟化镁膜层A（3），厚度为32.35nm；

第三层镀ITO膜层B（4），厚度为142.84nm；

第四层镀氟化镁膜层B（5），厚度为28.54nm；

第五层镀ITO膜层C（6），厚度为33.35nm

第六层镀氟化镁膜层C（7），厚度为30.5nm；

第七层镀ITO膜层D（8），厚度为130.3nm；

第八层镀氟化镁膜层D（9），厚度为89.74nm；

其中镀ITO膜层A（2）、ITO膜层B（4）、ITO膜层C（6）和ITO膜层D（8）的镀膜参数如下：

APC：1.2E-2帕，镀膜速率：0.6A/秒，离子源束压：200V，离子源束流：350A；

镀氟化镁膜层A（3）、氟化镁膜层B（5）、氟化镁膜层C（7）、和氟化镁膜层D（9）的镀膜参数如下：

APC：8.0E-3帕，镀膜速率：20A/秒，离子源束压：200V，离子源束流:350A。