[发明专利]柔性AMOLED基板及其制作方法

说明书

本发明提供一种柔性AMOLED基板及其制作方法。本发明的柔性AMOLED基板的制作方法包括：形成柔性衬底，所述柔性衬底包括显示区及位于显示区外围的弯折区；在所述柔性衬底上形成缓冲层，去除缓冲层上位于弯折区的部分，保留缓冲层上位于显示区的部分，使得柔性AMOLED基板的弯折区中的无机绝缘层的厚度减小，提升柔性AMOLED基板的弯折区的耐弯折性，从而提高生产良率。本发明的柔性AMOLED基板采用上述方法制得，所述柔性AMOLED基板的弯折区中的无机绝缘层的厚度较小，柔性AMOLED基板的弯折区的耐弯折性较好，生产良率高。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种柔性AMOLED基板及其制作方法。

背景技术

平面显示器件具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有的平面显示器件主要包括液晶显示器件(Liquid Crystal Display，LCD)及有机电致发光显示器件(Organic Light Emitting Display，OLED)。

OLED显示器件以其自发光、全固态、高对比度等优点，成为近年来最具潜力的新型显示器件。而OLED显示器件最大的特点在于可以实现柔性显示，采用柔性衬底制成重量轻、可弯曲、便于携带的柔性显示器件是OLED显示器件的重要发展方向。

OLED按照驱动方式可以分为无源矩阵型OLED(Passive Matrix OLED，PMOLED)和有源矩阵型OLED(Active Matrix OLED，AMOLED)两大类，即直接寻址和薄膜晶体管矩阵寻址两类。其中，AMOLED具有呈阵列式排布的像素，属于主动显示类型，发光效能高，通常用作高清晰度的大尺寸显示装置。

图1为现有的柔性AMOLED基板的结构示意图，如图1所示，所述柔性AMOLED基板包括柔性衬底110，所述柔性衬底110包括显示区及位于显示区外围的弯折(bending)区，所述柔性衬底110的显示区与弯折区上均设有缓冲层120，所述柔性衬底110的显示区上还设有位于缓冲层120上的有源层200、位于有源层200与缓冲层120上的栅极绝缘层400、位于栅极绝缘层400上的栅极410、位于栅极410与栅极绝缘层400上的层间介电层500、位于层间介电层500上的源极610与漏极620、位于源极610、漏极620、层间介电层500上的平坦层700、位于平坦层700上的阳极850、位于平坦层700、阳极850上的像素定义层900、位于阳极850上的OLED发光层950；所述柔性衬底110的弯折区上还设有位于缓冲层120上的栅极绝缘层400、位于栅极绝缘层400上的层间介电层500、位于层间介电层500上的平坦层700、位于平坦层700上的像素定义层900；由于所述柔性衬底110的弯折区上设有缓冲层120、栅极绝缘层400、层间介电层500三个无机绝缘层，因此无机绝缘层的厚度较大，使得所述柔性AMOLED基板的弯折区的耐弯折性较差，容易断裂，严重影响柔性AMOLED基板的生产良率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种柔性AMOLED基板的制作方法，能够提升柔性AMOLED基板的弯折区的耐弯折性，从而提高生产良率。

本发明的目的还在于提供一种柔性AMOLED基板，弯折区的耐弯折性较好，生产良率高。

为实现上述目的，本发明提供一种柔性AMOLED基板的制作方法，包括：形成柔性衬底，所述柔性衬底包括显示区及位于显示区外围的弯折区；在所述柔性衬底上形成缓冲层，去除缓冲层上位于弯折区的部分，保留缓冲层上位于显示区的部分。

所述柔性AMOLED基板的制作方法具体包括如下步骤：

步骤1、提供刚性载板，在所述刚性载板上形成柔性衬底，所述柔性衬底包括显示区及位于显示区外围的弯折区；

在所述柔性衬底上形成缓冲层，在所述缓冲层上形成多晶硅层；