[发明专利]940nm窄带滤光片及其递变膜系设计方法

权利要求书

1.一种940nm窄带滤光片，其特征在于：包括基板、第一递变膜堆和第二递变膜堆，所述第一递变膜堆沉积在基板上表面，所述第二递变膜堆设置于第一递变膜堆上表面，膜系结构为：Sub│(α₁Hβ₁Lα₂Hβ₂L…α_nHβ_nL)(i₁Hk₁Li₂Hk₂L…i_nHk_nL)│Air；

其中，Sub代表基板，(α₁Hβ₁Lα₂Hβ₂L…α_nHβ_nL)为第一递变膜堆，(i₁Hk₁Li₂Hk₂L…i_nHk_nL)为第二递变膜堆，Air代表空气；H表示高折射率材料膜层，L表示低折射率材料膜层；一个高折射率材料膜层和一个相邻与之配对的低折射率材料膜层形成一个高低对偶单元，n为第一递变膜堆、第二递变膜堆中高低对偶单元数量，n取整数；α、i表示各膜堆中高折射率材料膜层的光学厚度系数，即基板垂直方向上膜层光学厚度占λ₀/4的倍数，β、k表示各膜堆中低折射率材料膜层的光学厚度系数，即基板垂直方向上膜层光学厚度占λ₀/4的倍数，λ₀为中心波长。

2.如权利要求1所述的940nm窄带滤光片，其特征在于：所述第一膜堆中高折射率材料膜层H的光学厚度系数α₁，α₂，...，α_n形成的曲线与低折射率材料膜层L的光学厚度系数β₁，β₂，...，β_n形成的曲线分别为正弦曲线中的0～π/2、π/2～π、π～3π/2或3π/2～2π数值区间内的波形，且两条曲线递变趋势相反。

3.如权利要求1所述的940nm窄带滤光片，其特征在于：所述第二膜堆中高折射率材料膜层H的光学厚度系数i₁，i₂，...，i_n形成的曲线与低折射率材料膜层L的光学厚度系数k₁，k₂，...，k_n形成的曲线分别为正弦曲线中的0～π/2、π/2～π、π～3π/2或3π/2～2π数值区间内的波形，且两条曲线递变趋势相反。

4.如权利要求1所述的940nm窄带滤光片，其特征在于：所述高折射率材料膜层H的光学厚度系数α、i的取值范围为，0.2≤α、i≤2.7，所述低折射率材料膜层L的光学厚度系数β、k的取值范围为，0.2≤β、k≤2.7。