[发明专利]一种紫外线固化装置有效
申请号: | 201810046180.5 | 申请日: | 2018-01-17 |
公开(公告)号: | CN108121157B | 公开(公告)日: | 2020-05-15 |
发明(设计)人: | 徐晓轩;王斌;梁菁;车颖;徐阳阳;时金蒙;文虹镜;杨江涛;林宝志 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 | 代理人: | 马金华 |
地址: | 300000*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 紫外线 固化 装置 | ||
一种紫外线固化装置,包括基底,所述的基底上设置有压印基板,所述的基底四周设置有固化用框体,所述的固化用框体的外侧环绕设置有紫外光源,所述的基底上方设置有遮光板,所述的固化用框体上沿紫外光源向所述压印基板表面方向设置有聚光腔。本发明通过设置封闭的照射空间配合聚光装置提升紫外线的固化效率以及消除了操作人员的健康危险。
技术领域
本发明涉及纳米压印技术领域,具体涉及一种紫外线固化装置。
背景技术
纳米压印技术为将一具有纳米图案的模版以机械力在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制纳米图案,其加工分辨力只与模版图案的尺寸有关,而不受光学光刻的最短曝光波长的物理限制,目前NIL技术已经可以制作线宽在5nm以下的图案。由于省去了光学光刻掩模版和使用光学成像设备的成本。因此NIL技术具有低成本、高产出的经济优势。此外,NIL技术可应用的范围相当广泛,涵盖纳米电子元件、生物或化学的硅片实验室、微流道装置,超高存储密度磁盘、微光学元件等领域。现有的纳米压印技术的固化过程存在几个问题,首先是紫外线照射过程中需要用到专用照射室,这样成本过大;其次是紫外线照射需要用到多个大功率紫外线灯,这样才能保证照射过程中没有暗角,保证固化效果,但是这样做久导致成本进一步增大,同时由于照射室空间过大,干扰因素过大以至于效果很难保证;再则紫外线照射范围过大,容易对操作人员造成健康伤害。
发明内容
本发明的目的是提供一种紫外线固化装置,本发明通过设置封闭的照射空间配合聚光装置提升紫外线的固化效率以及消除了操作人员的健康危险。
本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:一种紫外线固化装置,包括基底,所述的基底上设置有压印基板,所述的基底四周设置有固化用框体,所述的固化用框体的外侧环绕设置有紫外光源,所述的基底上方设置有遮光板,所述的固化用框体上沿紫外光源向所述压印基板表面方向设置有聚光腔。
作为本发明的优选,所述的聚光腔包括由所述紫外光源向所述压印基板方向依次设置的第一聚光部、平行通道部、第二聚光部,所述的第一聚光部的聚光角度大于所述第二聚光部的聚光角度,所述的第一聚光部、所述的平行通道部、所述的第二聚光部的长度依次减小。
作为本发明的优选,所述的第二聚光部的出光端设置有准直镜。
作为本发明的优选,所述的准直镜上镀有增透膜,所述的聚光腔内镀有增反膜。
作为本发明的优选,所述的基底与所述压印基板接触侧的下方设置有加热装置。
作为本发明的优选,所述的遮光板朝向所述基底的一侧侧面上设置有反光面,所述反光面上镀有增反膜。
作为本发明的优选,所述的紫外光源设置于一光源基座上,所述的光源基座的出光端设置有碗型反光罩。
作为本发明的优选,所述的紫外光源为紫外LED,所述的紫外光源波长为320nm~350nm。
作为本发明的优选,所述固化用框体为石英材质,所述固化用框体表面涂覆有遮光涂料层。
作为本发明的优选,所述的遮光涂料包括直接涂覆在所述固化用框体表面的镀银涂层,所述镀银涂层表面涂覆有油墨涂层,所述油墨涂层表面涂覆有UV光油。
综上所述,本发明具有如下有益效果:
本发明拥有固化效率高、固化效率好的优点。
附图说明
图1是本发明实施例的结构示意图;
图2是图1的A处放大结构示意图;
图中:
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