[发明专利]抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘及其制备工艺有效
申请号: | 201810046092.5 | 申请日: | 2018-01-17 |
公开(公告)号: | CN108406619B | 公开(公告)日: | 2019-12-06 |
发明(设计)人: | 杨继顺 | 申请(专利权)人: | 宁国市顺鑫金属制品有限公司 |
主分类号: | B24D3/00 | 分类号: | B24D3/00;B24D18/00 |
代理公司: | 11621 北京和联顺知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐冬冬<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 242300 安徽省宣*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抛光盘 制备工艺 耐磨性能 抗氧化 抛光机 沥青 磨料 抛光盘材料 水合硅酸镁 耐磨性 石蜡 松香 多孔膨胀 二氧化硅 固相原料 抗氧化性 冷却脱模 散热性能 传统的 石油脂 微晶蜡 珍珠岩 浇注 固化 萃取 | ||
本发明提供抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘及其制备工艺,涉及抛光盘技术领域,该抛光盘由沥青、石蜡、微晶蜡、松香、多孔膨胀珍珠岩、二氧化硅、磨料、水合硅酸镁和石油脂为原料制成,该抛光盘的制备工艺包括沥青的萃取、固相原料的粉碎、搅拌混合、浇注固化、冷却脱模等过程,本发明的抛光盘材料本身表面质量高,无气孔,无杂质,且价格低廉,该抛光盘制品除了具有传统的抛光盘散热性能外,还具有良好的抗氧化性和耐磨性。
技术领域
本发明涉及抛光盘技术领域,具体涉及抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘及其制备工艺。
背景技术
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。传统的化学机械抛光利用抛光垫来传输和均匀分布抛光液,利用抛光液的成分和被抛光材料表面发生化学反应产生比较容易去除的物质,以及抛光颗粒和被抛光表面发生物理摩擦,达到抛光的目的。
由于金刚石是自然界中最硬的物质,化学惰性较强,所以是公认的难加工材料之一。但是,也正是因为金刚石具有独特的物理化学性质,所以它所制备的刀具在精密和超精密加工领域充当着不可替代的角色;另外,目前市场上所生产的抛光盘内部气孔分布不均匀,磨粒硬度高,许多远高于玻璃制品的硬度,在抛光过程中特别容易划伤玻璃表面。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明提供了抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘及其制备工艺,使得抛光机用抛光盘除了具有传统的抛光盘散热性能外,还具有良好的抗氧化性和耐磨性。
为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:
抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘,由以下重量份数的原料制成:
沥青80-100份、石蜡3-9份、微晶蜡3-8份、松香6-18份、多孔膨胀珍珠岩1-3份、二氧化硅1.5-4.5份、磨料2-7份、水合硅酸镁1-3份、石油脂2-4份。
优选地,所述抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘,由以下重量份数的原料制成:沥青90份、石蜡6份、微晶蜡5份、松香12份、多孔膨胀珍珠岩2份、二氧化硅3份、磨料4份、水合硅酸镁2份、石油脂3份。
优选地,所述石蜡和松香的质量比为1:2。
优选地,所述石蜡和多孔膨胀珍珠岩质量比为3:1。
优选地,所述石蜡和二氧化硅的质量比为2:1。
优选地,所述磨料为金刚石、碳化硅、碳化硼、氧化镁、氧化铝、氧化锆、氧化铁和氧化铈中的一种或几种,所述磨料的粒径为0.05-3um。
上述抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘的制备工艺,包括以下步骤:
(1)将沥青进行预先萃取6-8次,制得高纯度沥青;
(2)将石蜡、微晶蜡、松香、珍珠岩、二氧化硅、磨料、水合硅酸镁和石油脂分别研磨过筛后并混合均匀,制得固相混合物;
(3)将高纯度沥青置于搅拌机内,在70-90℃的温度下加热,待其融化后加入固相混合物,在搅拌的作用下混合均匀,即得沥青抛光液;
(4)将沥青抛光液注入预热至40-50℃的模具中,然后进行分阶段固化,其中:60℃固化2-4h,80℃固化2-4h,100℃固化2-4h,之后自然冷却至室温,脱模,即得到抛光盘。
有益效果:
本发明提供了抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘及其制备工艺,在石蜡中添加适量的微晶蜡能改变普通石蜡的晶型,改善石蜡的抗水性和渗透性,增加石蜡的抗弯强度,进而提高制品的塑性和挠性;石蜡和松香通过科学的配比,可以明显减少吸水厚度膨胀率,增加制品的弹性模量;多孔膨胀珍珠岩可以吸附熔融的石蜡上,可提高制品的熔点,进而提高制品的耐热性和耐氧化性。
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