[发明专利]化学放大胶组合物及其在紫外光刻的应用

权利要求书

1.一种化学放大型光刻胶组合物，包括主体材料、光致产酸剂、溶剂，所述主体材料为选自通式(I)、(II)、(III)、(IV)所示的化合物中的一种或多种，

其中，X独立地选自NH、S或O，Y为N，R独立地选自H、OH、酸敏基团，且至少一个R为酸敏基团，所述酸敏基团选自如下结构：-O-CO-OC_1-20烷基或-O-CO-C_1-20烷基；

Z独立地选自H、C_1-8烷基、-COOC_1-8烷基、R’独立地选自H、OH或酸敏基团，且至少一个R’为酸敏基团，所述酸敏基团独立的选自-OC_1-8烷基、-OCOOC_1-8烷基、

所述光致产酸剂为化合物中的一种或几种。

2.如权利要求1所述的光刻胶组合物，其中，所述-OCOOC_1-8烷基为所述-COOC_1-8烷基为

3.如权利要求1所述的光刻胶组合物，其中，所述光致产酸剂为

4.如权利要求1-3任一项所述的光刻胶组合物，其中，所述光致产酸剂的质量占光刻胶主体材料的2％-20％。

5.如权利要求1-3任一项所述的光刻胶组合物，其中，所述光刻胶组合物中主体材料的质量占光刻胶组合物的0.5％-10％。

6.如权利要求1-3任一项所述的光刻胶组合物，其中，所述光刻胶溶剂为烷烃、酯、醚、卤代烷化合物。

7.如权利要求6所述的光刻胶组合物，其中，所述光刻胶溶剂为1,2,3-三氯丙烷、苯甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇单醋酸酯、丙二醇二醋酸酯、乳酸乙酯、丙二醇单甲醚、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、醋酸新戊酯、醋酸丁酯、二乙二醇乙醚、乙二醇单甲醚、环己酮中的一种或几种。

8.如权利要求6所述的光刻胶组合物，其中，所述光刻胶溶剂的质量占光刻胶组合物90％-99.5％。

9.如权利要求1-3任一项所述的光刻胶组合物，其中，所述组合物含有防酸扩散剂。

10.如权利要求9所述的光刻胶组合物，其中，所述防酸扩散剂为含氮的胺类化合物。

11.如权利要求10所述的光刻胶组合物，其中，所述防酸扩散剂为甲胺、二甲胺、三甲胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、已二胺、环己胺、正辛胺、三正辛胺、N-甲基二正辛胺、叔辛胺、苯甲胺。

12.如权利要求9所述的光刻胶组合物，其中，所述防酸扩散剂的质量占光致产酸剂0％-20％。

13.根据权利要求1-3任一项所述的光刻胶组合物，其中，所述光刻胶组合物还含有增感剂、表面活性剂、染料、稳定剂。

14.一种薄膜，其是由权利要求1-13任一项所述的光刻胶组合物涂于基片上得到的。

15.根据权利要求14所述的薄膜，其中所述薄膜由权利要求1-13任一项所述的光刻胶组合物旋涂于基片上得到。

16.权利要求1-13任一项所述的光刻胶组合物或权利要求14或15所述的薄膜的用途，其用于200-450nm的紫外光刻中。

17.根据权利要求16所述的用途，其用于365nm I线光刻、248nm深紫外光刻、436nm G线光刻。

18.根据权利要求16所述的用途，其用于紫外曝光机、365nm激光直写近场光刻、365nm激光干涉光刻。