[发明专利]一种超亮负离子釉面砖及其生产工艺

权利要求书

1.一种超亮负离子釉面砖，其特征在于，由下至上依次设有：底层胚体、隔音保温层、顶层胚体、底釉层、功能层、面釉层；

所述底层胚体和所述顶层胚体，包括以下重量份原料：石粉28份、砂24份、超细负离子粉体10份、硅藻泥28份、泥23份、陶瓷废渣碎泥20份、水；

所述隔音保温层，包括聚酰胺网、石棉纤维和石膏粉；

所述石棉纤维和所述石膏粉铺设在所述聚酰胺网上，所述聚酰胺网的面积小于所述底层胚体和所述顶层胚体的面积；

所述底釉层，包括以下重量份原料：钾钠长石35-45份、石英25-30份、氧化铝15-20份、水洗土6-8份、烧滑石5-8份、硅酸锆15-18份、超细负离子晶体7份；

所述功能层，包括圈结构和圈结构之间的空隙，所述圈结构为多层、且由内至外逐圈增大的圈组成，所述圈成“回”字型，内圈的末端与外圈的始端连接，所述圈的高度为0.3-1cm，所述圈设置超细负离子晶体、活性炭、硅藻泥，所述空隙设置玻璃微珠；

所述面釉层，包括以下重量份原料：钾钠长石30-45份、碳酸钡8-16份、白云石6-8份、氧化锌3-5份、烧滑石6-8份、烧土3-5份、水洗土6-8份、刚玉3-7份、纳米二氧化钛5-8份、超细负离子晶体5-10份；

所述超细负离子晶体由超细负离子粉体在1230℃下煅烧而成，所述超细负离子粉体包括SiO₂、TiO₂、CaO、K₂O、LiO、Al₂O₃、B₂O₃、MgO、Na₂O、Fe₂O₃、FeO、MnO、P₂O₅的粉体，煅烧时间为每300公斤烧制80-90分钟。

2.根据权利要求1所述的超亮负离子釉面砖，其特征在于，所述隔音保温层的厚度为所述底层胚体的厚度的1/4-1/3。

3.根据权利要求1所述的超亮负离子釉面砖，其特征在于，所述玻璃微珠的直径为0.8～1.5mm。

4.根据权利要求3所述的超亮负离子釉面砖，其特征在于，所述玻璃微珠为高硼硅玻璃。

5.根据权利要求1所述的超亮负离子釉面砖，其特征在于，所述圈结构的每层宽度为所述超亮负离子釉面砖宽度的1/20-1/10，所述空隙的宽度为瓷砖宽度的1/20。

6.根据权利要求1所述的超亮负离子釉面砖，其特征在于，所述隔音保温层的厚度为所述底层胚体的1/5-4/5，所述石棉纤维和所述石膏粉的重量份比为1.8：1。

7.根据权利要求1所述的超亮负离子釉面砖，其特征在于，所述圈设置的超细负离子晶体、活性炭、硅藻泥为混合后通过模具烘烤成型。

8.根据权利要求1所述的超亮负离子釉面砖，其特征在于，所述底层釉施釉厚度为底层胚体厚度的1/10至1/15。

9.根据权利要求1所述的超亮负离子釉面砖，其特征在于，所述底层胚体和所述顶层胚体的厚度相同。

10.一种超亮负离子釉面砖的生产工艺，其特征在于，制得权利要求1～9中任意一项所述的超亮负离子釉面砖，包括以下步骤：

A、取原料SiO₂、TiO₂、CaO、K₂O、LiO、Al₂O₃、B₂O₃、MgO、Na₂O、Fe₂O₃、FeO、MnO、P₂O₅，粉碎成2000-4000目，取部分粉体备用，再取部分粉体在1230℃下煅烧，煅烧时间为每300公斤烧制80-90分钟，得到超细负离子晶体；

B、取石粉28份、砂24份、超细负离子粉体5份、硅藻泥28份、泥23份、陶瓷废渣碎泥20份、水，混合搅拌，得到的胚体料送入模具烘烤成型，得到底层胚体；

所述陶瓷废渣碎泥为陶瓷生产过程中的废渣；

C、向置于模具中的所述底层胚体铺撒石棉纤维和石膏粉，铺设聚酰胺网后，继续铺撒石棉纤维和石膏粉，加入胚体料，并继续烘烤成型，得到成型的底层胚体和顶层胚体；

D、取钾钠长石35-45份、石英25-30份、氧化铝15-20份、水洗土6-8份、烧滑石5-8份、硅酸锆15-18份、超细负离子晶体7份，混合搅拌，向顶层胚体施釉，烘烤成型，得到底釉层；

E、将涂有脱模剂的模具铺设在底釉层上，向模具投入超细负离子晶体、活性炭、硅藻泥和固定剂成型后脱模，将混有固定剂的玻璃微珠铺设于空隙内；

F、取钾钠长石30-45份、碳酸钡8-16份、白云石6-8份、氧化锌3-5份、烧滑石6-8份、烧土3-5份、水洗土6-8份、刚玉3-7份、超细负离子晶体5-10份，混合搅拌，向步骤E得到的砖体施面釉。