[发明专利]一种用于制备石墨烯的生产效率高的气相反应沉积设备在审
申请号: | 201810023138.1 | 申请日: | 2018-01-10 |
公开(公告)号: | CN108103475A | 公开(公告)日: | 2018-06-01 |
发明(设计)人: | 冯云 | 申请(专利权)人: | 长泰惠龙新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/48;C23C16/458 |
代理公司: | 深圳市汉唐知识产权代理有限公司 44399 | 代理人: | 彭益宏 |
地址: | 363900 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 生产效率 石墨烯 沉积 沉积设备 紧固组件 气相反应 内热 制备 沉积组件 炉盖 红外灯管 紧固单元 升降组件 影响基片 转盘旋转 受热 内表面 驱动轮 碳原子 紧固 炉体 竖杆 套环 加热 升降 转动 电机 体内 分解 保证 | ||
1.一种用于制备石墨烯的生产效率高的气相反应沉积设备,包括炉体(1)、进气管(2)、出气管(3)、炉盖(4)和至少两个支脚(5),所述进气管(2)设置在炉体(1)的一侧,所述出气管(3)设置在炉体(1)的另一侧,所述进气管(2)和出气管(3)均与炉体(1)连通,所述支脚(5)周向均匀分布在炉体(1)的下方,所述炉盖(4)设置在炉体(1)的上方,所述炉体(1)内设有若干第一红外灯管(32),所述第一红外灯管(32)周向均匀分布在炉体(1)的内壁上,其特征在于,所述炉盖(4)的竖向截面的形状为U形,所述U形截面的开口的下方设有内热机构,所述炉体(1)内设有沉积机构;
所述沉积机构包括第一电机(6)、转盘(7)、紧固组件和若干沉积组件,所述第一电机(6)固定在炉体(1)内的底部,所述第一电机(6)与转盘(7)传动连接,所述紧固组件设置在转盘(7)的上方,所述沉积组件周向均匀分布在紧固组件的外周;
所述沉积组件包括竖杆(8)、套环(9)和两个基片(10),所述竖杆(8)的底端固定在转盘(7)上,所述套环(9)套设在竖杆(8)上,两个基片(10)分别设置在竖杆(8)的两侧;
所述紧固组件包括第二电机(11)、驱动轮(12)和若干紧固单元,所述第二电机(11)固定在转盘(7)的上方,所述第二电机(11)与驱动轮(12)传动连接,所述紧固单元周向均匀分布在驱动轮(12)的外周,所述紧固单元与沉积组件一一对应;
所述内热机构包括升降组件、升降块(13)和若干第二红外灯管(14),所述升降组件与升降块(13)传动连接,所述第二红外灯管(14)周向均匀分布在升降块(13)的外周,所述升降组件包括驱动单元、移动块(15)、固定块(16)、伸缩架(17)、铰接块(18)和两个支杆(19),所述驱动单元与移动块(15)传动连接,所述固定块(16)固定在炉盖(4)的下方,所述伸缩架(17)的顶端的两侧分别与移动块(15)和固定块(16)铰接,所述伸缩架(17)的底端的两侧分别通过两个支杆(19)与铰接块(18)铰接,所述铰接块(18)固定在升降块(13)的上方。
2.如权利要求1所述的用于制备石墨烯的生产效率高的气相反应沉积设备,其特征在于,所述紧固单元包括第一连杆(20)、第二连杆(21)、移动杆(22)和两个紧固杆(23),所述第一连杆(20)的一端与驱动轮(12)铰接,所述第一连杆(20)的另一端与第二连杆(21)的一端铰接,所述第二连杆(21)的另一端与移动杆(22)的中心处固定连接,所述紧固杆(23)与基片(10)一一对应,两个紧固杆(23)分别设置在移动杆(22)的靠近基片(10)的一侧。
3.如权利要求1所述的用于制备石墨烯的生产效率高的气相反应沉积设备,其特征在于,所述紧固单元还包括固定环(24),所述固定环(24)固定在转盘(7)的上方,所述固定环(24)套设在第二连杆(21)上。
4.如权利要求1所述的用于制备石墨烯的生产效率高的气相反应沉积设备,其特征在于,所述驱动单元包括第三电机(25)和第三驱动轴(26),所述第三电机(25)位于移动块(15)的远离固定块(16)的一侧,所述第三电机(25)固定在炉体(1)的下方,所述第三驱动轴(26)设置在第三电机(25)和固定块(16)之间,所述第三电机(25)与第三驱动轴(26)传动连接,所述移动块(15)套设在第三驱动轴(26)上,所述第三驱动轴(26)的外周设有外螺纹,所述移动块(15)内设有内螺纹,所述移动块(15)内的内螺纹与第三驱动轴(26)上的外螺纹相匹配。
5.如权利要求1所述的用于制备石墨烯的生产效率高的气相反应沉积设备,其特征在于,所述升降块(13)的底端设有距离传感器(27)。
6.如权利要求1所述的用于制备石墨烯的生产效率高的气相反应沉积设备,其特征在于,所述竖杆(8)上设有凸块(28),所述凸块(28)位于固定环(24)的下方。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长泰惠龙新材料科技有限公司,未经长泰惠龙新材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810023138.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:类金刚石膜的制备方法
- 下一篇:一种金刚石涂层的制备方法及其制备装置
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的