[发明专利]一种具有参考电容的传感器件及其制造方法

权利要求书

1.一种具有参考电容的传感器件的制造方法，其包括：

(1)提供一衬底，所述衬底包括具有半导体元件的正面、所述正面相对的背面以及与所述正面和背面垂直的侧面；

(2)在所述衬底的所述背面蚀刻出凹槽，所述凹槽深度小于或等于所述衬底的厚度的一半，所述凹槽底面具有均匀排布的多个条形槽道；

(3)在所述衬底内钻孔形成过孔，所述过孔贯穿所述衬底；

(4)在所述过孔中填充导电物质形成导电通孔，并在所述正面形成多个第一焊盘，在所述背面形成位于凹槽两侧的布线层，以使得所述第一焊盘通过所述导电通孔电连接至所述布线层；

(5)在所述衬底的背面涂覆紫外活化树脂，并进行蚀刻去除部分的所述紫外活化树脂，形成插入所述条形槽道的片状树脂，利用紫外光充分照射所述片状树脂形成多个片状导电鳍片，所述片状导电鳍片的一端部插入所述条形槽道中，另一端部从所述凹槽内伸出，且所述布线层分别电连接所述片状导电鳍片的位于最外侧的两个鳍片；

(6)层压绝缘树脂层，所述绝缘树脂层覆盖所述背面、所述布线层、所述片状导电鳍片以及所述凹槽，且所述绝缘树脂层的侧面与所述衬底的侧面齐平。

2.根据权利要求1所述的具有参考电容的传感器件的制造方法，其特征在于：还包括在所述正面上涂覆粘合树脂，并将滤光玻璃片压合在所述粘合树脂上。

3.根据权利要求1所述的具有参考电容的传感器件的制造方法，其特征在于：还包括形成第二焊盘，所述第二焊盘位于所述绝缘树脂的侧面以及所述衬底的侧面上，并且其电连接于所述布线层。

4.根据权利要求1所述的具有参考电容的传感器件的制造方法，其特征在于：所述步骤(2)中的蚀刻采用等离子体蚀刻工艺实现。