[发明专利]一种自清洁式硅片翻转机构

说明书

本发明公开了一种自清洁式硅片翻转机构，包括底座、固定座、气缸、滑动板、支座、伺服电机、第一齿轮、转轴、第二齿轮、过渡板、夹爪气缸、自清洗机构，气缸能推动与滑动板固连的支座前移，当滑动板触发第一接近开关时，经进气管向分流箱内泵入压缩空气，压缩空气经分流孔吹出，两件自清洗机构相互清洗垫板上的灰尘，随后，夹爪气缸带动两自清洗机构合拢，从而将硅片夹紧，随后，气缸复位，当滑动板触发第二接近开关后，伺服电机通过第一齿轮带动转轴转动180°，从而带动夹持有硅片的夹爪气缸翻转180°。该装置结构简单，能对硅片自动翻转，而且翻转时先自动清洗夹持硅片的垫板，防止由于垫板不干净产生的二次污染。

技术领域

本发明涉及一种机械装置，尤其涉及一种自清洁式硅片翻转机构。

背景技术

半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染杂质，清除污染的方法有物理清洗和化学清洗，物理清洗主要是采用刷洗或擦洗的方法将硅片表面杂质去除，实际生产过程中，在对硅片进行清洗时，往往需要将硅片翻转180°，现有方法采用人工手动翻转，不仅效率低，而且有可能产生二次污染。鉴于以上缺陷，实有必要设计一种自清洁式硅片翻转机构。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于：提供一种自清洁式硅片翻转机构，来解决手动翻转硅片不仅效率低而且有可能产生二次污染的问题。

为解决上述技术问题，本发明的技术方案是：一种自清洁式硅片翻转机构，包括底座、固定座、气缸、滑动板、支座、伺服电机、第一齿轮、转轴、第二齿轮、过渡板、夹爪气缸、自清洗机构，所述的固定座位于底座上端左侧，所述的固定座与底座通过螺栓相连，所述的气缸位于固定座左侧，所述的气缸与固定座通过螺栓相连，所述的滑动板位于底座上端左侧且位于气缸右侧，所述的滑动板与气缸螺纹相连，所述的支座位于滑动板顶部，所述的支座与滑动板通过螺栓相连，所述的伺服电机位于支座上端左侧，所述的伺服电机与支座通过螺栓相连，所述的第一齿轮位于伺服电机右侧，所述的第一齿轮与伺服电机键相连，所述的转轴贯穿支座，所述的转轴与支座转动相连，所述的第二齿轮位于第一齿轮下端且被转轴贯穿，所述的第二齿轮与第一齿轮啮合相连且与转轴键相连，所述的过渡板位于转轴右侧，所述的过渡板与转轴螺纹相连，所述的夹爪气缸位于过渡板外侧，所述的夹爪气缸与过渡板螺纹相连，所述的自清洗机构数量为2件，分别与夹爪气缸的夹爪固连。

本发明进一步的改进如下：

进一步的，所述的底座还设有导轨，所述的导轨位于底座上端，所述的导轨与底座通过螺栓相连。

进一步的，所述的底座还设有定位块，所述的定位块位于底座上端右侧，所述的定位块与底座通过螺栓相连。

进一步的，所述的定位块还设有第一接近开关，所述的第一接近开关贯穿定位块，所述的第一接近开关与定位块螺纹相连。

进一步的，所述的固定座还设有第二接近开关，所述的第二接近开关贯穿固定座，所述的第二接近开关与固定座螺纹相连。

进一步的，所述的滑动板还设有滑块，所述的滑块位于滑动板底部且被导轨贯穿，所述的滑块与滑动板通过螺栓相连，所述的滑块可以沿导轨左右滑动。

进一步的，所述的自清洗机构还包括连接板、设有若干分流孔的分流箱、垫板，所述的连接板与夹爪气缸的夹爪固连，所述的分流箱位于连接板下端，所述的分流箱与连接板通过螺栓相连，所述的垫板位于分流箱下端，所述的垫板与分流箱粘接相连，所述的分流孔位于分流箱下端。

进一步的，所述的分流箱还设有进气管，所述的进气管位于分流箱上端，所述的进气管与分流箱螺纹相连。