[发明专利]涂层剂在审
申请号: | 201810019075.2 | 申请日: | 2013-11-27 |
公开(公告)号: | CN108047866A | 公开(公告)日: | 2018-05-18 |
发明(设计)人: | 山手太轨 | 申请(专利权)人: | 日本曹达株式会社 |
主分类号: | C09D143/04 | 分类号: | C09D143/04;C09D133/08;C09D133/14;C09D135/02;C09D183/07;C09D7/61 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;唐峥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涂层 | ||
本发明涉及涂层剂。本发明的课题在于提供能够形成与塑料基材的密合性优异、具有透明性和高折射率的层的涂层剂。本发明的涂层剂含有下式(I)表示的化合物。式中,A表示任选具有供电子性基团作为取代基的苯基、萘基;Z为碳原子或硅原子;R
本申请是申请日为2013年11月27日、发明名称为“涂层剂”的中国发明专利申请No.201380071019.9(国际申请号为PCT/JP2013/006973)的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种新型的涂层剂,尤其是涉及与塑料基材的密合性优异的涂层剂。
本申请对2013年1月28日提出申请的第2013-013092号日本专利申请主张优先权,并将该申请的内容并入本文中。
背景技术
具有芳基的化合物作为提供具有透明性和高折射率的聚合物(光学材料)的单体而为人们所知。例如,专利文献1、2中记载了具有三苯基甲硅烷基的化合物可作为透镜、棱镜等的光学材料使用。此外,专利文献3中记载了具有4个苯基的化合物可用于光学元件中。
但是,含有上述化合物的涂层剂与塑料基材的密合性优异这点尚未为人所知。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开昭63-145310号公报
专利文献2:日本特开昭63-145287号公报
专利文献3:WO2009/139476号小册子
发明内容
本发明的课题在于提供一种涂层剂,所述涂层剂能够形成与塑料基材的密合性优异、具有透明性和高折射率的层。
为了解决上述课题,本申请的发明人进行了锐意研究,结果发现式(I)表示的化合物可提供能形成与塑料基材的密合性优异的层的涂层剂,从而完成了本发明。
即,本发明涉及:
(1)一种涂层剂,含有式(I)表示的化合物。
式(I)
[式(I)中,
A为下述化学式2;
Z为碳原子或硅原子;
R
X为:
单键,
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