[发明专利]并行周向连续式等离子体镀膜装置

说明书

本发明涉及一种并行周向连续式等离子体镀膜装置，其包括工艺腔体、回转腔体、进料系统、真空系统、物料车，工艺腔体内设置有多组工艺组件密封板、周向分布的多组储料腔、回转装置、物料引导装置，回转腔体设置有回转伸缩装置、物料传导装置、物料腔，进料口设置有可开合的密封门板，真空系统分别对工艺腔体与回转腔体的组合体、进料口进行真空处理，物料车上可装载树形单挂物料，工艺腔体内可形成独立真空室并独立进行工艺处理，回转装置可实现物料车的传动及自转，回转腔体内的物料腔可与储料腔及进料口形成密封的独立真空室并实现物料车传导，进料系统可将物料取出及放入。采用上述方案，本发明可实现批量单挂物料并行连续式镀膜生产。

技术领域

本发明属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种并行周向连续式等离子体镀膜装置。

背景技术

现有的真空镀膜设备按照真空设备中真空腔的数目可分为单体式镀膜机及连续式镀膜设备。

单体式镀膜机通常是有一个真空腔体及抽气系统组成，真空镀膜工艺模块装载在腔体不同位置上，在达到所需真空度时，按顺序启用所需真空镀膜工艺模块，来实现材料表面的加工，单一腔体导致产品进出料时需要开关门，不能对产品进行连续生产，这会大大降低生产效率，增大人工成本，而且生产的不连续性造成实际生产中的产品差异性增大，一定程度上会影响产品质量。同时单体式镀膜转架在腔体内公转，转架往往比较大，等离子体在整个镀膜空间的分布极其不均匀，真正镀膜时间短，镀膜等待时间过长，严重影响产品质量，镀膜效率低。

自动连续式真空镀膜设备是多个独立的镀膜腔的真空镀膜装置，具有连续不间断生产、工艺稳定、生产节拍短的特点，目前大量应用于工业生产。连续式真空镀膜设备可以大大提高生产的自动化程度，提高生产效率，提高良品率。

现有技术中的连续式真空镀膜设备包含具有复数独立的镀膜腔、具有清洁缓冲腔及缓冲真空腔的缓冲真空装置、具有前置准备腔及完成腔的准备装置、传送装置及包括复数闸门的闸门单元。其工作原理是通过线性串联多组不同的工艺处理组件，通过传输系统实现产品逐步的工艺过程。

连续式真空镀膜设备结构复杂，多个独立的镀膜腔需要配置多个高真空泵组，大量闸门的使用，增加了生产成本、生产时间、生产空间，复杂的设备增加了待镀工件传动的难度，多个腔体的存在也使增加了生产过程中故障维修的难度和成本，连续式镀膜设备的高门槛大大提高了企业的使用成本；对于一些异型尺寸的工件，连续生产时，一方面闸板尺寸限制了异形件的加工尺寸，另一方面加工过程需要大量的人力装、卸载，成本高昂，不利于实现连续化生产。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种可在一个真空腔内实现对产品连续式镀膜生产的并行周向连续式等离子体镀膜装置。

为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：其包括工艺腔体、回转腔体、进料系统、真空系统、物料车，工艺腔体内设置有多组工艺组件密封板、周向分布的多组储料腔、回转装置、物料引导装置、进料口，回转腔体设置有回转伸缩装置、物料传导装置、物料腔，进料口设置有可开合的密封门板，真空系统分别对工艺腔体与回转腔体的组合体、进料口进行真空处理，物料车上装载树形单挂物料，工艺腔体内形成独立真空室并独立进行工艺处理，回转装置实现物料车的传动及自转，回转腔体内的物料腔可与储料腔及进料口形成密封的独立真空室并实现物料车传导，进料系统可将物料取出及放入。

本发明进一步设置为：所述的工艺腔体内设置有多组工艺组件密封板、周向分布的多组储料腔、回转装置、物料引导装置，所述的多组工艺组件密封板装配有气相沉积工艺模块，并可与之相对的储料腔形成独立的真空室，从而独立进行相应的气相沉积工艺处理，所述的多组储料腔装配在回转装置上，所述回转装置可实现储料腔的公转及储物腔内的物料车自转，所述物料引导装置装配在储料腔内，通过气缸伸展推动，可实现物料车在工艺腔体及回转腔体之间传导。