[发明专利]一种基于分子阵预处理的MUSIC波束形成方法有效

专利信息
申请号: 201810018258.2 申请日: 2018-01-09
公开(公告)号: CN110018466B 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 陈新华;郑恩明;李媛;宋春楠 申请(专利权)人: 中国科学院声学研究所
主分类号: G01S7/539 分类号: G01S7/539
代理公司: 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 代理人: 陈琳琳;张红生
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 分子 预处理 music 波束 形成 方法
【说明书】:

发明公开了一种基于分子阵预处理的MUSIC波束形成方法,所述方法包括:根据线列阵接收数据中信号和噪声相关性的差异,将线列阵中2N‑1个阵元接收数据通过分子阵预处理转变为N个阵元数据;然后再对N个阵元数据进行处理,得到MUSIC波束输出。本发明方法对线列阵接收数据进行了分子阵预处理,有效提高线列阵接收数据协方差矩阵中信号含有量和信噪比,降低了背景噪声和旁瓣级对MUSIC波束形成检测弱目标带来的影响,提高了MUSIC波束形成对弱目标检测的检测效果。

技术领域

本发明涉及声纳信号处理领域,特别涉及一种基于分子阵预处理的MUSIC波束形成方法。

背景技术

水下目标检测与估计是阵列信号处理的一个重要分支。波束形成作为阵列信号处理中核心算法,输出波束中的背景噪声和旁瓣级一直是其设计中需要考虑的问题。低背景噪声和旁瓣级可以有效降低对位于强目标旁瓣区域内弱目标检测的漏报概率。

为了对波束形成输出背景噪声和旁瓣级实现控制,许多学者从不同方法对降低波束形成旁瓣级进行了深入研究,并取得了一定的研究成果,提出了很多方法,主要为Chebyshev滤波方法,“凹槽噪声场”方法,静态波束图数字综合方法,反复迭代方法,多线性约束方法,非线性优化方法,凸优化(Convex Optimization)方法,半无限二次规划(Semi-Infinite Quadratic Programming)方法,二阶锥(Second-Order Cone)约束方法,中心矩方法,虚拟干扰源构造能量聚焦矩阵方法,稀疏约束方法。在以上方法中,Chebyshev滤波方法以其简单方便常被应用实际工程中,但存在旁瓣级设置和主瓣宽度控制折中选择问题。

目前的方法都未能解决针对MUSIC波束形成中背景噪声和旁瓣级对检测弱目标性能影响的问题。

发明内容

本发明的目的在于针对MUSIC波束形成中背景噪声和旁瓣级对检测弱目标性能影响的问题,根据线列阵接收数据中信号和噪声相关性的差异,提出一种基于分子阵预处理的MUSIC波束形成方法。该方法首先需要将线列阵中2N-1个阵元接收数据通过分子阵预处理转变为N个阵元数据;然后再采用MUSIC波束形成思想对该N个阵元数据进行处理,可得到各方位处空间谱。由于该方法对线列阵接收数据进行了分子阵预处理,有效提高线列阵接收数据协方差矩阵中信号含有量和信噪比,降低了背景噪声和旁瓣级对MUSIC波束形成检测弱目标带来的影响,提高了MUSIC波束形成对弱目标检测的检测效果。

为了实现上述目的,本发明提出了一种基于分子阵预处理的MUSIC波束形成方法,所述方法包括:

根据线列阵接收数据中信号和噪声相关性的差异,将线列阵中2N-1个阵元接收数据通过分子阵预处理转变为N个阵元数据;然后再对N个阵元数据进行处理,得到MUSIC波束输出。

作为上述方法的一种改进,所述方法具体包括:

步骤1)对线列阵2N-1个阵元接收数据按下式进行分组处理:

式中,Xn(fl)表示第n个阵元拾取的频率fl数据,表示为:

式中:S(fl)为目标辐射信号,Nn(fl)为第n个阵元拾取的加性高斯白噪声数据,λ=fl/c为波长,d为线列阵相邻阵元间距,θ0为目标相对线列阵入射角度,c为声速入射;

步骤2)在搜索角度θ,θ=1,2,…180处,按下式对各组数据进行相移预处理:

步骤3)对各组数据预处理结果进行相加,得到一组新数据Y(fl)为:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院声学研究所,未经中国科学院声学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810018258.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top