[发明专利]一种义齿支架制作工艺

权利要求书

1.一种义齿支架制作工艺，其特征在于：包括如下步骤：

a、设计并制作牙模（1）；

b、在牙模（1）上复制耐火材料模型；

c、在耐火材料模型上制作义齿粗胚的蜡型，具体包括如下步骤：

c1、在耐火材料模型上的基牙表层涂抹一层分离剂；

c2、在85℃-95℃的水中浸泡一秒钟，从而在基牙表面粘上一层均匀的黄蜡；

c3、取出后冷却，在黄蜡表面涂抹一层青蜡；

c4、在基牙舌侧颈缘均匀加上一层厚度为0.6mm、宽度为1.0～1.2mm的肩台；

c5、用红蜡恢复缺牙区的基本形态，然后回切使牙的各个面预留上瓷的位置；

d、在义齿粗胚的蜡型上安插铸道；

e、将填充后的蜡型置入铸圈内进行包埋处理，铸圈内的包埋材料为以石英、方石英、磷酸二氢铵、磷酸二氢镁以及金属氧化物为主要成分的磷酸盐包埋材；

f、对铸圈以及铸圈内的蜡型进行烧焙；

步骤f具体步骤如下：

f1、包埋完毕后，蜡型与铸圈同时置入烧焙装置内；

f2、低温段：在30-40分钟内，从室温升温至,280℃-320℃，并恒温30-40分钟；

f3、中温段：在25-40分钟内，逐渐升温至690℃-710℃，并恒温30-40分钟；

f4、高温段：在10-20分钟内，逐渐升温至800℃-850℃，步骤f的平均升温速度为每分钟上升10℃-15℃；

g、对烧焙完成后的铸型进行铸造，完成后取出。

2.根据权利要求1所述的一种义齿支架制作工艺，其特征在于：步骤f1中，置入蜡型与铸圈的时候，铸道口向下。

3.根据权利要求1所述的一种义齿支架制作工艺，其特征在于：步骤f4中，升温至690℃-710℃后，将铸圈倒置，使铸孔向上。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的一种义齿支架制作工艺，其特征在于：步骤a具体包括如下步骤：

a1、设计牙模（1），将牙模（1）置于导线分析仪的平台上，观测模型，进行支架（2）、卡环等的设计并确定共同就位道，然后在牙模（1）上用彩笔绘制各基牙卡环的走向、内阶台的位置、连接板的外形等支架（2）各结构部件的图形；

a2、在设计好的牙模（1）上填补倒凹及衬蜡，根据绘出的铸造支架（2）图形，用倒凹蜡填补倒凹及缓冲区，并用薄蜡片对网状结构区域进行衬垫；

a3、在牙模（1）上刻划连接板外形线，并沿连接板的外形线刻划一条沟槽；

a4、对牙模（1）进行浸水处理，将牙模（1）置于30℃-35℃的温水中浸泡15-20min。

5.根据权利要求1所述的一种义齿支架制作工艺，其特征在于：步骤g后还设有步骤h，步骤h为用打磨机对支架（2）进行打磨。

6.根据权利要求5所述的一种义齿支架制作工艺，其特征在于：步骤h后还设有步骤i，步骤i为用电解抛光机对支架（2）进行电解、抛光处理。