[发明专利]一种降解模组及清洗设备

权利要求书

1.一种降解模组，其特征在于，包括基底以及设置在所述基底上的降解层，所述降解层用于在光的照射下降解有机物，所述降解层包括靠近基底的平坦层以及间隔设置在所述平坦层上的条状体或块状体，所述条状体或块状体的两侧与所述平坦层之间具有坡度角；

还包括设置在所述基底与所述降解层之间的电极层和绝缘层，所述电极层靠近所述基底，所述绝缘层覆盖所述电极层，所述电极层包括与所述条状体或块状体相对应的主控电极条或主控电极块，所述主控电极条或主控电极块在所述基底上的正投影包含所述条状体或块状体在所述基底上的正投影。

2.根据权利要求1所述的降解模组，其特征在于，所述降解层的材质包括二氧化钛，所述光为紫外光。

3.根据权利要求1所述的降解模组，其特征在于，所述降解层的材质包括二氧化钛和铁，所述光为可见光。

4.根据权利要求3所述的降解模组，其特征在于，所述铁的质量与二氧化钛和铁的质量和的比值为0.3％～5％。

5.根据权利要求1所述的降解模组，其特征在于，所述电极层还包括设置在相邻所述主控电极条或主控电极块之间的辅助电极条或辅助电极块。

6.一种清洗设备，其特征在于，包括权利要求1-5中任意一项所述的降解模组，还包括用于向所述降解模组照射光的发光模组，所述降解模组设置在清洗设备的容器内，所述降解模组的设置方向与容器内的水流方向一致。

7.根据权利要求6所述的清洗设备，其特征在于，所述降解模组的数量为至少两个，所述至少两个降解模组依次重叠设置。