[发明专利]掩膜版的吸附装置及吸附方法、蒸镀设备及蒸镀方法

说明书

本发明提供了一种掩膜版的吸附装置及吸附方法、蒸镀设备及蒸镀方法，以解决蒸镀时掩膜版被吸附后FMM出现褶皱的问题。其中该吸附方法包括：从掩膜版的某一或某些区域开始吸附，然后由初始吸附区域逐渐扩大吸附范围，直至整个掩膜版与衬底基板相贴合。上述吸附方法应用于制造OLED显示面板的蒸镀过程中，以提高蒸镀质量。

技术领域

本发明涉及OLED(英文全称为：Organic Light-Emitting Diode，中文名称为：有机发光二极管)显示面板制造技术领域，尤其涉及一种掩膜版的吸附装置及吸附方法、蒸镀设备及蒸镀方法。

背景技术

目前，OLED显示面板的生产主要采用的是蒸发镀膜的方式，蒸镀过程中，需要采用FMM(英文全称为：Fine Metal Mask，中文名称为：高精度金属掩膜版)来沉积R(红色)子像素、G(绿色)子像素、B(蓝色)子像素等膜层，以确保将薄膜材料蒸镀在规定位置。

如图1a～图1d所示，在一个金属框架1(Frame)上依次焊接遮蔽条2(Cover)、支撑条3(Howling)和长条状的FMM 4，形成一套掩膜版。其中，遮蔽条2的长度方向与FMM 4的长度方向一致，遮蔽条2位于相邻FMM 4之间的间隙，用以遮挡各FMM 4之间的间隙。支撑条3的长度方向与FMM 4的长度方向相垂直，用于支撑各FMM 4。遮蔽条2和支撑条3交叉所形成的网格区域暴露FMM 4的显示区AA，FMM 4的显示区AA对应显示面板的显示区AA。

如图2a～图2b所示，蒸镀时，将衬底基板5置于掩膜版上方，使其与掩膜版的FMM 4贴合。通常，掩膜版和衬底基板5会由于自身重力作用而发生下垂，两者间可能会有间隙，因此需要在衬底基板5上方放置一块具有强磁性的高斯板6，将掩膜版吸附起来，从而使FMM 4更紧密地和衬底基板5贴合在一起，以确保蒸镀位置的准确性。

但是，上述吸附过程却存在如下问题：掩膜版被吸附后，FMM 4容易产生褶皱，从而引起蒸镀位置的偏移，影响显示面板良率；严重时FMM 4会产生折痕，甚至FMM 4的细孔结构被破坏，直接导致整套掩膜版损坏或报废，造成成本的损失。

发明内容

本发明实施例提供一种掩膜版的吸附装置及吸附方法、蒸镀设备及蒸镀方法，以解决蒸镀时掩膜版被吸附后FMM出现褶皱的问题。

为达到上述目的，本发明实施例采用如下技术方案：

第一方面，本发明实施例提供了一种掩膜版的吸附装置，该吸附装置包括：吸附部件，用于在蒸镀时吸附掩膜版，且能够同时对掩膜版的不同区域产生不同或相同的吸附力；与所述吸附部件相连的控制器，用于控制所述吸附部件从掩膜版的某一或某些区域开始吸附，然后由初始吸附区域逐渐扩大吸附范围，直至整个掩膜版与衬底基板相贴合。

作为一种可能的设计，所述吸附部件包括：第一载板；分散布置于所述第一载板上的至少两个电磁铁，所述至少两个电磁铁能够同时产生相同的磁力，每个所述电磁铁包括铁芯，及缠绕于所述铁芯上的若干圈线圈；至少两个开关，每个所述开关与至少一个所述电磁铁相连。

作为一种可能的设计，所述吸附部件包括：柔性的第二载板；分散布置于所述第二载板上的至少两个磁铁，所述至少两个磁铁能够同时产生相同的磁力。

作为一种可能的设计，所述吸附部件包括至少两个高斯单元，每个所述高斯单元包括第三载板，及布置于所述第三载板上的至少一个磁铁；所述至少两个高斯单元能够独立升降，且能够同时产生相同的磁力；在蒸镀时，所述至少两个高斯单元分别对应掩膜版的各个区域，以吸附整个掩膜版。

第二方面，本发明实施例提供了一种掩膜版的吸附方法，该吸附方法应用于如第一方面所述的掩膜版的吸附装置，该吸附方法包括：从掩膜版的某一或某些区域开始吸附，然后由初始吸附区域逐渐扩大吸附范围，直至整个掩膜版与衬底基板相贴合。

第三方面，本发明实施例提供了一种蒸镀设备，该蒸镀设备包括如第一方面所述的吸附装置。