[发明专利]光刻胶涂覆方法及涂布机

说明书

本发明公开一种光刻胶涂覆方法及涂布机，属于显示技术领域。该方法包括：在基板的目标板面上喷涂预设溶剂，在喷涂有预设溶剂的目标板面的中央区域喷涂光刻胶；控制基板按照第一预设速度旋转第一时长，使光刻胶向目标板面的周边区域扩散。本发明有助于解决光刻胶涂覆的难度较大的问题，降低光刻胶涂覆的难度。本发明用于光刻胶涂覆。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种光刻胶涂覆方法及涂布机。

背景技术

光刻胶(英文：Photoresist；简称：PR)又称光阻，在显示产品的制造过程中，经常需要采用涂布机(英文：Coater)在基板(衬底基板或形成有一定图形的基板)上涂覆光刻胶。

相关技术中，涂布机包括转盘和喷嘴(英文：Nozzle)，转盘具有承载面，在基板上涂覆光刻胶时，将基板固定设置在转盘的承载面上，然后采用喷嘴将一定量的光刻胶喷涂在基板的目标板面的中央区域，之后控制转盘旋转，带动基板绕基板的中心旋转，在基板旋转的过程中，位于目标板面的中央区域的光刻胶在离心力的作用下向目标板面的周边区域扩散，最终在目标板面上形成光刻胶层。其中，基板的目标板面为基板上待涂覆光刻胶的一面。

在实现本发明的过程中，发明人发现相关技术至少存在以下问题：

光刻胶的粘度通常较大，导致光刻胶在基板上的扩散阻力较大，因此，光刻胶涂覆的难度较大。

发明内容

本发明提供一种光刻胶涂覆方法及涂布机，可以解决光刻胶涂覆的难度较大的问题。本发明的技术方案如下：

第一方面，提供一种光刻胶涂覆方法，所述方法包括：

在基板的目标板面上喷涂预设溶剂；

在喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶；

控制所述基板按照第一预设速度旋转第一时长，使所述光刻胶向所述目标板面的周边区域扩散。

可选地，在控制所述基板按照第一预设速度旋转第一时长之后，所述方法还包括：控制所述基板按照第二预设速度旋转第二时长，使扩散至所述周边区域的光刻胶向所述中央区域扩散，其中，所述第二预设速度旋转小于所述第一预设速度。

可选地，所述在基板的目标板面上喷涂预设溶剂，包括：

通过涂布机的溶剂喷涂组件在所述基板的目标板面上喷涂预设溶剂；

所述在喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶，包括：

通过所述涂布机的胶体喷涂组件在喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶。

可选地，在基板的目标板面上喷涂预设溶剂之前，所述方法还包括：

将所述基板固定设置在所述涂布机的旋转组件的承载面上。

可选地，所述控制所述基板按照第一预设速度旋转第一时长，包括：

控制所述旋转组件按照所述第一预设速度旋转所述第一时长，带动所述基板按照所述第一预设速度旋转所述第一时长；

所述控制所述基板按照第二预设速度旋转第二时长，包括：

控制所述旋转组件按照所述第二预设速度旋转所述第二时长，带动所述基板按照所述第二预设速度旋转所述第二时长。

可选地，所述第一预设速度的取值范围为500转每分钟～2500转每分钟，所述第二预设速度的取值范围为100转每分钟～200转每分钟。

可选地，所述第一时长的取值范围为1秒～2秒，所述第二时长的取值范围为1秒～1.5秒。

可选地，所述第一预设速度的方向与所述第二预设速度的方向相同。