[发明专利]紫外线照射装置、紫外线照射装置中使用的配件及弹性构件、以及紫外线照射方法

说明书

本发明提供一种即使在照射相同强度的紫外线的情况下，也能够提高对患部(靶细胞)照射的辐射照度的紫外线照射装置。该紫外线照射装置具备装置主体，所述装置主体构成为能够从光照射部照射紫外线；基板，所述基板配置于光照射部且对紫外线显示透射性；和弹性构件，所述弹性构件载置于基板的与装置主体成相反侧的面上，且由对紫外线具有透射性的材料构成。

技术领域

本发明涉及紫外线照射装置、紫外线照射装置中使用的配件及弹性构件、以及紫外线照射方法。

背景技术

光线治疗中存在使用近红外光的红外线治疗、使用UVA(波长为320nm～400nm)、UVB(波长为290～320nm)这样的光的紫外线治疗。近年来，特别是作为针对白斑、干癣、特应性皮炎等皮肤疾病的治疗，紫外线治疗正在广泛普及。例如，下述专利文献1中公开了使用准分子灯的治疗仪。

作为这些治疗法的作用机理，考虑(1)对细胞因子-趋化因子等液性因子的影响、(2)粘附分子等细胞表面分子的表达变化、(3)成为病因的细胞的凋亡诱导、(4)调节性T细胞的诱导等。其中，特别是(3)的机理很重要。清楚了在成为干癣、特应性皮炎、T细胞淋巴瘤等的病因的T细胞浸润到真皮为病理的疾病中，通过对T细胞照射紫外线，浸润的T细胞陷入凋亡而被除去，由此病变好转。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第4670780号公报

非专利文献

非专利文献1：Anderson RP,Parrish JA et al.,Optics of the skin.Clinicalphotomedicine(Lim HW,Soter NA,Ed),Marcel Dekker,New York,1993,19-35

非专利文献2：Mark Allen Evereit et al.,Penetration of epidermis byultraviolet rays.,Photochem Photobiol.1966Jul；5(7):533-42.

非专利文献3：堀尾武、「光皮膚科学V.光線療法に必要な紫外線の基礎知識」、皮膚の科学、第15巻、第1号、2016年2月

发明内容

发明所要解决的课题

紫外线疗法中，对疾病部位的皮肤直接照射紫外线。紫外线在从皮肤外表面到达浸润有靶细胞的T细胞的层的过程中，被水分子、黑色素、血红蛋白等光吸收物质吸收，或者被构成角质层、表皮及真皮的细胞漫射。其结果，紫外线的辐射照度随着行进的距离延长而衰减。

例如，在从皮肤外表面照射UVB光时，到达真皮的紫外线量为10％左右(参照所述非专利文献1～3)。

即，在从皮肤外表面照射紫外线的情况下，存在没有充分的辐射照度的紫外线到达患部(靶细胞)的可能性。另一方面，由于有可能对健康的细胞造成不良影响，因此提高紫外线的强度本身存在极限。由于这样的情况，通过以往的紫外线治疗方法，治疗期间可能会长期化。

本发明鉴于上述情况，其目的在于提供一种即使在照射相同强度的紫外线的情况下，也能够提高对患部(靶细胞)照射的辐射照度的紫外线照射装置。另外，本发明的另一目的在于提供一种这样的紫外线照射装置中使用的配件及弹性构件。另外，本发明的另一目的还在于提供一种紫外线照射方法。

用于解决课题的手段

本发明的紫外线照射装置的特征在于，具备：

装置主体，所述装置主体构成为能够从光照射部照射紫外线，

基板，所述基板配置于所述光照射部且对紫外线显示透射性，和