[发明专利]密封构造

权利要求书

1.一种密封构造，其具备环状的密封件，该密封件在轴与壳体之间的滑动间隙中配置于在所述壳体形成的密封槽中，将高压侧和低压侧隔开，其中，

所述壳体具有低压侧面部和槽底部，在与所述轴的轴向平行且通过所述轴的中心线的假想平面中的所述密封构造的剖面中，该低压侧面部构成所述密封槽的靠所述低压侧的侧面且沿着与所述轴向正交的方向延伸，该槽底部构成所述密封槽的底面且在所述剖面中沿着所述轴向延伸，

所述密封件包含主体部和第1突出部，该主体部具有与所述低压侧面部相接触的底面，该第1突出部自所述主体部突出且具有以随着靠近所述低压侧而靠近所述轴的方式延伸的形状，

所述第1突出部具有顶端部，该顶端部设于所述第1突出部的最接近所述低压侧的位置，

在所述密封件配置于所述密封槽且被所述轴和所述槽底部按压的状态下，所述第1突出部具有与所述轴相接触的接触区域，

所述顶端部设于比所述接触区域接近所述低压侧的位置，

所述剖面中的所述接触区域在所述接触区域的最接近所述高压侧的位置具有上端接触部，

所述剖面中的所述第1突出部在所述主体部与所述第1突出部之间的分界线上的最接近所述低压侧面部的位置具有边界部，

所述边界部设于比所述上端接触部接近所述低压侧的位置，

在将通过所述上端接触部且同所述轴向正交的直线与通过所述边界部且同所述轴向正交的直线之间的距离设为X的情况下，满足0.55mm≤X≤0.68mm，

所述密封件还包含第2突出部，该第2突出部自所述主体部突出且与所述槽底部相接触。

2.根据权利要求1所述的密封构造，其中，

所述剖面中的所述主体部具有相对于沿着所述轴向的第2中心线对称的形状，

所述第1突出部和所述第2突出部相对于所述第2中心线对称。