[发明专利]将打印覆盖矩阵与对象属性矩阵相关在审
申请号: | 201780089877.4 | 申请日: | 2017-04-21 |
公开(公告)号: | CN110612193A | 公开(公告)日: | 2019-12-24 |
发明(设计)人: | P·莫罗维奇;J·莫罗维奇;M·M·戈特瓦尔斯;I·塔斯特尔 | 申请(专利权)人: | 惠普发展公司;有限责任合伙企业 |
主分类号: | B29C64/393 | 分类号: | B29C64/393;B29C64/386;B29C64/314;B33Y50/02 |
代理公司: | 72001 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 李雪娜;陈岚 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 矩阵 打印 处理器 覆盖 打印材料 对象生成 目标函数 向量生成 属性集 向量集 向量 制造 | ||
1.一种方法,包括:
在处理器处接收第一矩阵和第二矩阵,所述第一矩阵包括打印覆盖向量集,每个打印覆盖向量指定用于使用增材制造的对象生成的打印材料,所述第二矩阵包括使用打印覆盖向量生成的对象的对应属性集;以及
由处理器确定与所述第一和第二矩阵相关的目标函数的解。
2.根据权利要求1所述的方法,还包括使用所述解来预测新打印覆盖向量的属性集,其中所述新打印覆盖向量不在所述第一矩阵中。
3.根据权利要求1所述的方法,还包括获得新打印覆盖向量以及使用新打印覆盖向量生成的对象的对象属性集;以及
基于所获得的新打印覆盖向量以及对象属性集细化所述解。
4.根据权利要求1所述的方法,其中确定解包括确定要应用到所述第一矩阵的映射运算符。
5.根据权利要求1所述的方法,其中确定解包括确定函数:
minT||g(T*f(M))-g(P)||中的T、f()和g(),其中M是第一矩阵并且P是第二矩阵,f()和g()是映射运算符并且T是变换矩阵。
6.根据权利要求5所述的方法,其中要最小化的函数是L2范数。
7.根据权利要求1所述的方法,其中所述解包括将打印材料的组合与对象属性相关的至少一个交叉积运算符。
8.根据权利要求1所述的方法,其中解包括将打印材料与对象属性相关的至少一个缩放因子。
9.根据权利要求1所述的方法,其中所述打印覆盖向量集是指定体素处打印试剂和打印试剂组合的体积覆盖试剂向量集。
10.一种处理装置,包括:
映射模块,用于估计目标函数的解,所述目标函数将指定用于对象生成的打印材料的打印覆盖向量集与使用每个打印覆盖向量生成的对象的测量属性相关;以及
学习模块,用于基于新打印覆盖向量和测量属性适应所述解。
11.根据权利要求10所述的处理装置,还包括:
属性预测模块,用于使用所述目标函数来预测新打印覆盖向量的对象属性,其中所述新打印覆盖向量不在所述打印覆盖向量集中。
12.根据权利要求10所述的处理装置,还包括:
打印覆盖向量生成模块,用于响应于预期的对象属性的指示使用所述目标函数的解来生成新打印覆盖向量,其中所述新打印覆盖向量不在所述打印覆盖向量集中。
13.根据权利要求10所述的处理装置,其中所述映射模块用于确定要应用到打印覆盖向量的至少一个变换矩阵以及至少一个映射运算符。
14.一种存储指令的机器可读介质,所述指令当由处理器施行时,使处理器:
确定变换矩阵和至少一个运算符,其使与第一和第二矩阵相关的函数最小化,其中所述第一矩阵包括指定用于使用增材制造的对象生成的打印材料的打印覆盖向量集,并且第二矩阵包括使用打印覆盖向量生成的对象的对应属性集;以及
将所述变换矩阵和所述运算符应用到以下至少之一:
新打印覆盖向量,用于估计使用所述新打印覆盖向量生成的对象的所述属性;以及
属性集,用于估计打印覆盖向量,所述打印覆盖向量当用于生成所述对象时被预测为产生所述属性。
15.根据权利要求14所述的存储指令的机器可读介质,所述指令当由处理器施行时,使所述处理器在接收到将打印覆盖向量添加到所述第一矩阵以及将属性集添加到所述第二矩阵的数据时,重新确定所述变换矩阵和所述运算符中的至少一个。
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