[发明专利]导电性水溶液的制造装置和导电性水溶液的制造方法

说明书

导电性水溶液制造装置(1)具有在供给作为原料水的超纯水(W)的主配管(11)的中途上设置的离子交换装置(2)、在该主配管(11)的离子交换装置(2)的下游侧合流的供给管(12)、以及导电性赋予物质供给装置(3)。对于离子交换装置(2)中填充的离子交换体而言，例如，在导电性赋予物质是氨的情况下，上述离子是阳离子，也就是说，是铵离子(NH₄⁺)，因此，优选填充阳离子交换树脂。此外，在导电性赋予物质是二氧化碳的情况下，上述离子是阴离子，也就是说，是碳酸氢离子(HCO₃^‑)或碳酸离子(CO₃^2‑)，因此，优选填充阴离子交换树脂。所述导电性水溶液制造装置能够以稳定的浓度制造导电性水溶液，对于浓度的变更追随性优异。

技术领域

本发明涉及一种导电性水溶液的制造装置和制造方法，特别涉及一种适合于获得高纯度的导电性水溶液的导电性水溶液的制造装置和制造方法。

背景技术

在半导体或液晶的制造工艺中，使用杂质被高度地除去的超纯水来进行半导体晶片或玻璃基板的清洗。

在使用这样的超纯水的半导体晶片的清洗中，因为超纯水的电阻率值高，易于发生静电，有可能导致绝缘膜的静电破坏或微粒子的再附着。因此，近年来，通过向超纯水中溶解微量的氨等的导电性赋予物质，来调整超纯水的电阻率值使其变低，抑制静电的发生。

使微量的导电性赋予物质溶解在该超纯水中得到的导电性水溶液，使用向超纯水中添加导电性赋予物质的装置来制造，但因为期望是尽可能高纯度的，因此提出将添加了导电性赋予物质得到的导电性水溶液通过离子交换装置进行处理(专利文献1、专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-76590号公报。

专利文献2：日本特开2016-76589号公报。

发明内容

发明所要解决的课题

然而，在专利文献1和专利文献2中所述的导电性水溶液的制造装置中，向超纯水中添加导电性赋予物质后，通过离子交换装置进行处理，因此，具有的问题是，例如添加氨作为导电性赋予物质，在从获得的导电性水溶液中除去作为杂质的金属离子的情况下，铵离子成为金属离子除去的障碍，充分提高纯度是困难的。特别是，在导电性水溶液的浓度浓的情况下，该导电性物质和离子交换体进行离子交换，要除去的物质的除去变得困难。此外，在使导电性水溶液的浓度变动的情况下，具有的问题是，因为离子交换装置中的离子交换体吸附或放出离子，稳定在期望的浓度为止需要花费时间。

本发明是鉴于上述情况提出，其目的在于提供能够以稳定的浓度制造导电性水溶液、对浓度的变更追随性优异的导电性水溶液的制造装置和制造方法。

用于解决课题的手段

为了达成上述的目的，本发明第一方面是提供导电性水溶液制造装置，具备：原料水能够流通的方式构成的离子交换装置、以及在通过了所述离子交换装置的原料水中添加导电性赋予物质而生成导电性水溶液的导电性赋予物质供给装置，向通过了所述离子交换装置的原料水中溶解所述导电性赋予物质而生成的、对该原料水赋予导电性的离子是阳离子的情况下，向所述离子交换装置中填充阳离子交换体，在所述离子是阴离子的情况下，向所述离子交换装置中填充阴离子交换体(发明1)。