[发明专利]缓冲器以及滑动部件的制造方法在审
| 申请号： | 201780084474.0 | 申请日： | 2017-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN110214238A | 公开（公告）日： | 2019-09-06 |
| 发明（设计）人： | 中濑拓也 | 申请（专利权）人： | KYB株式会社 |
| 主分类号： | F16F9/32 | 分类号： | F16F9/32;C25D11/04;C25D11/18 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 付生辉 |
| 地址： | 日本国东京都港区浜松*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 滑动部件 缓冲器 等离子电解氧化 缸体 等离子电解氧化处理 研磨处理步骤 活塞 铝合金制 制造 滑动自如 移动自如 研磨 滑动面 活塞杆 膜厚 连结 | ||
【权利要求书】：
1.一种缓冲器，具备：
铝合金制的缸体，其在内周具有等离子电解氧化膜；
活塞，其滑动自如地插入到所述缸体内；以及
活塞杆，其移动自如地插入到所述缸体内并与所述活塞连结。
2.根据权利要求1所述的缓冲器，其中，
所述等离子电解氧化膜包含α-氧化铝。
3.根据权利要求1所述的缓冲器，其中，
所述等离子电解氧化膜是在通过等离子电解氧化处理而在所述缸体的内周成膜40μm以上之后对内周面进行研磨处理而形成的。
4.根据权利要求3所述的缓冲器，其中，
所述等离子电解氧化膜是在通过等离子电解氧化处理而在所述缸体的内周成膜45μm以上之后对内周面进行研磨处理并在5μm以上且20μm以下的范围内去除表面而形成的。
5.一种滑动部件的制造方法，具备：
等离子电解氧化处理步骤，在铝合金制的滑动部件的滑动面上形成膜厚40μm以上的等离子电解氧化膜；以及
研磨处理步骤，对所述等离子电解氧化膜的表面进行研磨。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于KYB株式会社，未经KYB株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780084474.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
