[发明专利]修改微光刻光学系统的成像性质的方法和装置

权利要求书

1.一种修改微光刻光学系统的成像性质的方法，

-其中所述成像性质通过控制信号(A，B，C)来修改，所述控制信号由至少一个接口耦合到所述光学系统中，

-其中所述控制信号的值基于模型来确定，所述控制信号的值在控制所述成像性质的期望的修改期间在各个情况下被耦入，

-其中所述模型借助于在学习阶段中进行将所述模型连续单独适配到所述光学系统来创造，在所述学习阶段中确定了对于所述控制信号的不同值分别所取得的成像性质的修改；并且

-其中在与所述光学系统内的内部动作机制相关的显性信息没有在先规定的情况下，进行所述学习阶段。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述模型使用人工智能的方法来创造，其中在所述学习阶段进行将所述控制信号的不同值耦合到所述光学系统中的训练。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述人工智能的方法选自包含监督式学习、无监督式学习和半监督式学习的组。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，在不修改所述模型结构的情况下，在所述学习阶段中所述模型适配于所述光学系统。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述模型仅使来自所述光学系统外部的可观察的成像性质与来自所述光学系统外部的可变的控制信号相关。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述光学系统的至少一个元件被致动，以修改所述成像性质，其中所述致动通过基于所述控制信号(A，B，C)控制所述至少一个致动器来实现。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述光学元件是可变形的光学元件，特别是可变形的反射镜。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述光学系统是微光刻投射曝光设备，其包括照明装置和投射镜头，其中所述照明装置在操作所述投射曝光设备期间用具有操作波长的使用光来照明具有在所述投射镜头的物平面中布置的、要成像的结构的掩模，并且其中所述投射镜头将所述结构成像到在所述投射镜头的像平面中布置的基板上。

9.一种修改微光刻光学系统的成像性质的设备，其特征在于所述设备配置为实行如前述权利要求中任一项所述的方法。

10.一种微光刻投射曝光设备，其特征在于，所述微光刻投射曝光设备包括如权利要求9所述的设备。