[发明专利]溅镀沉积期间的颗粒减少

权利要求书

1.一种物件，包含：

载具，用于将基板支托在近乎垂直配置，所述基板具有至少正面、背面、顶边、底边和二个侧边，所述载具包含：

a.框架，所述框架的尺度大于所述基板，所述框架包含：

i.顶部，包含至少一个边缘且设置以接触或间接或直接支撑所述基板的至少一部分的所述顶边、所述正面或所述背面；

A.其中所述顶部包含一或更多个收集盘，所述一或更多收集盘包含凸片物体，所述凸片物体具有长度、宽度和厚度，并以相对所述顶部20°至160°的角度θ在背向待支撑的所述基板的方向上突出所述顶部，以使得所述收集盘形成凹槽或沟槽以捕集落下的颗粒，和其中所述凸片物体的所述长度横跨所述顶部的至少一部分的所述长度，且近乎平行于所述顶部的所述至少一个边缘；

ii.底部，近乎平行于所述顶部，所述底部设置以接触或间接或直接支撑所述基板的至少一部分的所述底边、所述正面或所述背面；和

iii.二个侧部，所述二个侧部彼此平行且所述二个侧部近乎垂直于所述顶部与所述底部，各侧部设置以接触或间接或直接支撑所述基板的至少一部分的所述侧边的其中一个、或所述正面或所述背面；和

b.一或更多夹固机构，用于将玻璃固定于所述框架的所述顶部、所述底部或所述侧部的至少一个；和

其中所述载具设计成当基板在所述载具中时，所述基板保持呈大于0°至10°的角度φ前倾。

2.如权利要求1所述的物件，其中所述基板保持呈大于1°至5°的角度φ前倾。

3.如权利要求1所述的物件，其中所述凸片物体以相对所述顶部40°至170°的角度θ突出所述顶部。

4.如权利要求1所述的物件，其中所述凸片物体相对所述顶部的所述角度从最初角度θ变成最终角度ψ。

5.如权利要求4所述的物件，其中所述角度改变是因弯曲或弯折所致，且θ与ψ相差大于60°。

6.如权利要求1所述的物件，其中所述框架的所述顶部位于所述基板的所述正面的前方且具有-10°至10°的一倾角ω。

7.如权利要求1所述的物件，其中所述框架的所述顶部位于所述基板的所述正面的后方且具有-10°至10°的前倾角ω。

8.如权利要求1所述的物件，其中所述框架进一步包含一或更多个电解涂层。

9.如权利要求8所述的物件，其中所述电解涂层包含铜、铬、钛、镍或上述物质的组合物或氧化物。

10.如权利要求1所述的物件，其中至少一部分的所述载具具有1μm至100μm的平均表面粗糙度Ra。

11.一种涂布基板的方法，所述方法包含：

a.把所述基板放到如权利要求1至权利要求10任一项所述的所述物件；和

b.使所述基板经受薄膜涂布工艺处理。

12.如权利要求11所述的方法，其中所述薄膜涂布工艺包含化学气相沉积、溅镀沉积、电子束沉积、脉冲激光沉积、分子束外延或离子束沉积。

13.如权利要求11所述的方法，其中所述基板保持呈大于1°至5°的角度φ前倾。

14.如权利要求11所述的方法，其中所述凸片物体以相对所述顶部40°至140°的角度θ突出所述顶部。

15.如权利要求11所述的方法，其中所述凸片物体相对所述顶部的所述角度从最初角度θ变成最终角度ψ。

16.如权利要求15所述的方法，其中所述角度改变是因弯曲或弯折所致，且θ与ψ相差大于60°。