[发明专利]减少反射光束的光学功率

权利要求书

1.一种用于极紫外(EUV)光源的系统，所述系统包括：

光生成系统，被配置为将一个或多个光束发射到光束路径上；

一个或多个光学放大器，所述一个或多个放大器中的每个放大器包括在所述光束路径上的增益介质，每个增益介质被配置为放大所述一个或多个光束以产生一个或多个放大光束；以及

一个或多个衍射光学元件，所述衍射光学元件处于所述光学路径上，其中所述一个或多个衍射光学元件中的每个衍射光学元件具有多个焦距，并且所述衍射光学元件的每个焦距与特定偏振状态相关联。

2.根据权利要求1所述的系统，其中

衍射光学元件的所述多个焦距至少包括第一焦距和第二焦距，

所述第一焦距与第一偏振状态相关联，

所述第二焦距与第二偏振状态相关联，并且所述第二偏振状态与所述第一偏振状态正交，以及

所述一个或多个衍射光学元件中的每个衍射光学元件基于所述第一焦距来对所述第一偏振状态的光进行聚焦并且基于所述第二焦距来对所述第二偏振状态的光进行聚焦。

3.根据权利要求1所述的系统，其中

所述多个焦距至少包括第一焦距和第二焦距，以及

所述第一焦距是正焦距，并且所述第二焦距是负焦距，使得在与所述一个或多个衍射光学元件中的一个衍射光学元件相互作用之后，所述偏振状态中的至少一种偏振状态的光会聚，并且所述偏振状态中的至少一种偏振状态的光发散。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述衍射光学元件包括基板和结构，所述结构包括多个物理特征。

5.根据权利要求4所述的系统，其中所述结构形成于所述基板中，所述结构的所述物理特征包括形成于所述基板中的多个凹槽。

6.根据权利要求4所述的系统，其中所述结构形成于所述基板的表面处，所述结构的所述物理特征包括形成于所述基板的所述表面处的多个凹槽。

7.根据权利要求4所述的系统，其中由所述光生成系统发射的所述一个或多个光束中的每个光束具有波长，并且所述物理特征彼此间隔开比所述一个或多个光束中的至少一个光束的所述波长小的距离。

8.根据权利要求4所述的系统，其中所述结构的所述物理特征被布置为准周期性结构，所述准周期性结构的所述物理特征包括至少一对凹槽，所述至少一对凹槽彼此间隔开与另一对凹槽之间的距离不同的距离。

9.根据权利要求7所述的系统，其中所述基板包括由N相级别形成的衍射透镜，N是等于或大于2的整数，所述结构的所述物理特征包括多个凹槽以形成多组凹槽，其中一组凹槽形成于所述N相级别中的每个级别处，并且在所述N相级别中的一个级别处的所述凹槽被定向在与至少形成在所述N相级别中的另一级别处的所述凹槽的定向方向不同的方向上。

10.根据权利要求4所述的系统，其中所述基板包括金刚石、硒化锌(ZnSe)、砷化镓(GaAs)和锗(Ge)中的一个或多个。

11.根据权利要求1所述的系统，其中

所述一个或多个光学放大器中的每个光学放大器包括在所述光束路径上的输入窗口和输出窗口，所述光学放大器的所述增益介质处于所述输入窗口与所述输出窗口之间，以及

所述光学放大器中的任何光学放大器的至少一个输入窗口或所述光学放大器中的任何光学放大器的至少一个输出窗口是所述一个或多个衍射光学元件中的一个衍射光学元件。

12.根据权利要求1所述的系统，还包括：

光学系统，包括在所述光束路径上的一个或多个光学元件，所述光学元件中的每个光学元件被配置成与所述一个或多个放大光束相互作用以对所述一个或多个放大光束进行聚焦，所述光学系统还包括所述一个或多个衍射光学元件中的至少一个衍射光学元件。